二手 ASML PAS 5500 #293830305 待售

ASML PAS 5500是一个步骤和扫描光刻晶片步进.它利用EUV光刻工艺产生的激光将晶片的图像暴露在光掩模上。然后移动掩模以将不同的图像曝光到晶片上。此过程允许为各种应用创建复杂且高度详细的微电路。PAS 5500是一款多功能矩阵导航器/多色扫描仪/光学系统，由多台计算机控制。它包含八个激光器，每个激光器产生30 W的功率，允许精确曝光图样段。光刻镜可以以纳米精度在两个轴（x和y）上移动。晶圆保持在0.5 torr压力下的AlGaAs半导体级上，允许在光刻过程中均匀蚀刻。ASML PAS 5500采用EUV-Lithography波长为13.2纳米（nm），以便将图样精确蚀刻到晶圆上。EUV-Lithography是一个极精确的过程，写场只有5-15 nm，导致最小特征尺寸只有20 nm。PAS 5500能够一口气产生多种模式，浪费最少。它还能够对具有多种特征的区域进行超缩放光刻，对需要更精细蚀刻的设备进行高分辨率沉积。此外，它还可以进行多层蚀刻和纳米压印光刻。ASML PAS 5500具有模块化设计,允许定制和易于维护。蒙版表设置为60度角,从而减少了交换蒙版的时间和复杂性。这样可以在生产过程中快速更改,从而提高生产率。PAS 5500步进器针对微电子制造进行了优化，是一种在晶圆上产生复杂电路的可靠高效的方法。它占地面积小,功耗低,适合在广泛的制造环境中使用。