二手 ASML Twinscan AT 1150i #9112175 待售

ASML Twinscan AT 1150i是一种集成晶圆步进器，设计用于光掩模到晶圆光刻。它为最具挑战性的光刻工艺提供了强大的光学元件、低拥有成本和广泛的曝光能力。步进器配备了照明设备，能够提供完全可编程的曝光场，允许各种光刻形式，如长光源、多级光掩模和高分辨率掩模。照明系统以DUV-optomechanical单元为基础，可校正高达4阶的像差，提供0.72的高数值孔径（NA）和小至2.5微米的最小光斑尺寸。这台高性能光学机器提供出色的分辨率和深度聚焦,使步进器能够经济高效地解决最先进的工艺难题。此外，Twinscan AT 1150i的光学工具能够同时使用标准干涉测量和先进的复杂模式识别技术来支持0.3微米的覆盖精度。ASML Twinscan AT 1150i由多种关键系统组成,包括自动对准、微投影镜头、步进控制器、晶片扫描平台和晶片级。自动对齐器可确保光刻过程中曝光轮廓的精确对齐。微型投影镜头能够产生分辨率高达0.6微米的高质量图像，而步进控制器则以高度优化的方式管理曝光分辨率和光线强度。晶片扫描平台同时支持单掩码和多掩码曝光模式,从而实现高吞吐量和高重复性。最后，晶片级能够提供晶片相对于遮罩和曝光窗的精确定位和对准。Twinscan AT 1150i具有强大的软件套件,旨在为各种基板和晶圆尺寸提供自动化和优化的光刻工艺。该资产包括直观的用户友好软件控制,使操作员能够快速高效地执行流程修改。此步进器为各种光刻应用程序提供基于配方的预定义配方,从而允许在生产过程中快速实施。ASML Twinscan AT 1150i还具有直观的诊断功能,使操作员能够快速识别和解决光刻过程中的任何潜在问题。总而言之,Twinscan AT 1150i是一种先进的高性能晶片步进器,可提供各种先进的光刻选项,满足最苛刻的应用需求。它具有强大的光学功能、强大的软件控制和自动化的过程校准功能。该模型是经济高效的光刻工艺的理想解决方桉。