二手 ASML Twinscan XT 1460K #293811716 待售

ASML Twinscan XT 1460K
ID: 293811716
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ASML Twinscan XT 1460K是一种用于半导体制造业的尖端晶圆步进工具。它是由ASML设计和制造的,ASML是半导体行业光刻设备和解决方桉的领先供应商。Twinscan XT 1460K是其Twinscan XT系列中的ASML高级型号之一,以其在硅晶片上阵列化集成电路的高性能和精确度而着称。主要功能和功能:1.分辨率增强技术(RET): ASML Twinscan XT 1460K提供先进的分辨率增强技术,以实现生产前沿半导体器件所需的亚纳米分辨率。这包括光学接近校正(OPC)、相移掩模(PSM)和其他计算光刻方法等技术,以增强模式保真度和对临界尺寸的控制。2.数值光圈(NA):twinscan XT 1460K配备高NA镜头设备,可提高分辨率和对焦深度。高NA使步进器能够以更高的精度在晶圆上成像较小的特征,从而导致更高的模式保真度和更严格的过程控制。3.浸入式光刻:XT 1460K利用浸入式光刻技术,在透镜和晶片之间使用液体介质(通常是水)来增强光学系统的分辨力。浸入式光刻技术使步进器能够实现更高的分辨率和模式传输保真度,特别是对于先进的技术节点。4.多重图桉:XT 1460K支持多种图桉技术,如石刻石刻(LELE)和自对齐双图桉(SADP),以克服单次曝光光刻在印刷高长宽比和紧密间距的密集图桉时的局限性。多重模式增强了步进器产生具有子波长特征的复杂设备布局的能力。5.高吞吐量:ASML Twinscan XT 1460K专为大批量制造环境而设计,可提供快速的晶圆吞吐量,以满足半导体织物的生产需求。它具有坚固的级单元、先进的晶圆比对算法以及优化的曝光序列,以最大限度地提高生产率,同时保持出色的迭加和焦点控制。6.迭加和对齐控制:XT 1460K结合了先进的对齐和迭加控制机制,以确保在晶圆上精确定位多个设计层。它利用复杂的传感器、反馈环路和校准程序来实现亚纳米覆盖精度,并最大限度地减少曝光期间的模式未对准误差。7.标线处理和管理:XT 1460K包括一台标线管理机器,可在晶圆曝光期间高效加载、对准和交换标线。步进器设计用于处理多种标线类型,包括二进制、相移和高级标线技术,以支持多种光刻应用和工艺。总体而言,Twinscan XT 1460K晶圆步进器是一种先进的光刻工具,适用于寻求突破Moore's Law界限并以最高的精度和可靠性生产尖端电子设备的半导体制造商。其先进的特性、分辨率能力和吞吐量性能使其成为当今竞争激烈的半导体行业制造先进半导体器件的高度通用和不可或缺的工具。
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