二手 ASML TWINSCAN XT 1700FI #293603594 待售

ASML TWINSCAN XT 1700FI是一种用于制造集成电路的光刻设备。该系统用于在半导体晶圆上曝光图样。它采用193纳米KrF激光光源来曝光晶圆和半导体上的图样。该单元基于晶圆步进平台，由曝光室、曝光头和轨道组成。曝光头包括激光照明器、投影光学器件和扫描仪。激光照明器发出一束狭窄的光束，聚焦在投影光学器件上的晶圆上。然后，扫描仪将晶片水平移动穿过激光束，并将图样暴露在晶片上。ASML TWINSCAN XT:1700FI是业界性能最高的扫描仪之一,能够提供高达340 mm/s的曝光速度。它具有纳米级精度，分辨率为0.06微米，在曝光场上均匀性增强。曝光头具有16个放大倍率选项和可编程光圈机,使客户能够实现比以前更高的吞吐量和更均匀的薄膜。其先进的冷却、小占地面积和可调节的静电场都进一步促进了该工具的卓越曝光性能。除扫描仪外,TWINSCAN XT 1700FI还提供各种其他功能,可改善用户体验并降低拥有成本。其集成的晶圆处理资产允许自动晶圆处理，从而减少了操作员的人工。其内置的载荷/卸载模型消除了对单独载荷站的需求，消除了成本和空间需求。可以将几种维护方桉编入设备中,以进行定期维护,从而减少停机时间和运营成本。该系统适用于任何类型的设备，从数字电路到模拟电路，从SRAM到DRAM设备。它也足够坚固，可以处理不同的晶圆材料。此外,它还与最新版本的ASML专有Euv光刻ASML软件兼容,从而确保获得最佳效果。TWINSCAN XT:1700FI是一个非常通用和可靠的光刻设备,允许用户以经济高效的方式生产高质量的产品。其高吞吐量和精确度使任何制造工艺受益，使其成为任何半导体制造设施的理想选择。