二手 ASML Twinscan XT 1700i #293817830 待售

ASML Twinscan XT 1700i
ID: 293817830
Argon Fluoride (ArF) Scanner Numerical Aperture (NA): 1.2 Resolution: 65 nm.
ASML Twinscan XT 1700i是为半导体工业设计的先进浸入式光刻设备。这种晶片步进器是半导体製造过程中的关键元件,使得硅晶片上的集成电路能够精确的制图。XT 1700i是ASML Twinscan平台的一部分,以其领先的技术和卓越的半导体光刻性能而闻名。XT 1700i的核心是其浸入技术,它通过在投影透镜和晶圆之间使用液体介质来提高光刻工艺的分辨率和准确性。这种浸入技术允许在晶圆上对较小的特征进行阵列化,将半导体制造的边界推向较小的节点和较高密度的集成电路。XT 1700i具有很大的视野,可以同时在单个晶片上曝光多个模具。这种高吞吐量对于最大限度地提高半导体织物的生产率和降低每个芯片的制造成本至关重要。该系统还配备了高数值光圈(NA)投影镜头,有助于其卓越的分辨率和成像性能。为了获得最佳的成像和阵列处理结果,XT 1700i采用了复杂的对齐和调平单元。这台机器确保晶片在曝光场内精确定位和定向,最大限度地减少覆盖误差,提高整个晶片的模式保真度。XT 1700i与广泛的光敏材料兼容,使半导体制造商能够适应不同的工艺要求,达到所需的制图效果。该工具还具有高级控制软件,可提供实时监控和调整,以确保跨多个晶圆的模式一致且准确。XT 1700i的主要优点之一是灵活性和可扩展性。该资产可以通过新的模块和功能轻松升级,以纳入沉浸式光刻的最新技术进步。这种可扩展性使半导体制造商能够在快速发展的行业中保持竞争力,并满足下一代半导体器件的需求。总体而言,Twinscan XT 1700i是最先进的晶圆步进器,为半导体制造提供无与伦比的性能、分辨率和生产率。XT 1700i凭借其沉浸式技术、先进的对准与调平系统、高通量能力,是推动尖端半导体器件发展、推动半导体技术边界的关键工具。
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