二手 ASML XT 1400E #9289671 待售
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ID: 9289671
晶圆大小: 12"
优质的: 2006
Lithography system, 12"
SMIF / FOUP
ARF Scanner
Projection lens:
RMS Z5-Z37 : 2.65 nm
RMS spherical: 0.76 nm
RMS coma: 1.92 nm
RMS astigmatism: 0.45 nm
RMS 3-foil: 0.71 nm
Straylight at ref. blocksize: 0.75%
Illumination:
Integrated slit uniformity setting: 0.9%
Illumination intensity setting: 1575 mW/cm2
Dose repeatibility
Dose accuracy setting
Pupil verification
Ellipticity setting: 0.321 mean
Missing parts:
BMU
Y1 Shuttle hook motor hose connect parts
(2) PSU Workstation
R-chuck
PMB 5
MPD Box
SHB E-Rack
SHB Component box
WH Robot
PPD
DIFF Sensor
(2) CCM
Zero laser box
MCCB
(2) PAAC
CPM Board load
2006 vintage.
ASML XT 1400E是半导体工业中用于集成电路光刻制图的最先进的晶圆步进器。XT 1400E采用六轴非SA常量扫描（NASC）级等先进技术来提高精度和速度。这台机器的数值孔径为0.55，场径可达200毫米。其曝光时间短至10毫秒,可在5nm内执行重复性。ASML XT 1400E专为在晶片上成像和曝光而设计,以创建细线电路和诸如互连和沟槽等特征。它还能够自动对准多个曝光模具,并覆盖来自设计的90多层图桉。这减少了对复杂光刻曝光配方的需求。XT 1400E使用先进的照明设备来降低曝光结果的表面粗糙度。这是通过使用高脉冲激光和"超高NA" （SHNA）离轴照明系统实现的。这提供了对曝光强度的动态控制,并能够动态对准成像和曝光精度。ASML XT 1400E还具有多种内置的安全功能。它在曝光地点的内部激光互锁降低了激光曝光的风险，碰撞检测单元检查曝光元件的意外移动。此外，XT 1400E具有内置的环境控制机，在运行过程中保持最佳工作温度、湿度和空气质量。总之,ASML XT 1400E是一种先进且高度复杂的晶片步进器,能够在晶片上成像和曝光以创建细线电路、特征和互连。其内置的安全特性、先进的照明工具、环境控制资产，确保了一次又一次的无缝准确运行。
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