二手 ASML XT 1400E #9289672 待售
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ID: 9289672
晶圆大小: 12"
优质的: 2005
Lithography system, 12"
SMIF / FOUP
ARF Scanner
Projection lens:
RMS Z5-Z37 : 3.16 nm
RMS Spherical: 1.62 nm
RMS Coma: 1.69 nm
RMS Astigmatism: 0.48 nm
RMS 3-Foil: 0.46 nm
Straylight at ref blocksize: 0.62%
Illumination:
Integrated slit uniformity setting: 0.44%
Illumination intensity setting: 1748 mW/cm2
Dose repeatibility: 0.199
Dose accuracy setting: 2.896
Pupil verification
Ellipticity setting: 1.879 mean
Focus and leveling:
Leveling verification:
Chuck to chuck focus difference: 5 nm
2005 vintage.
ASML XT 1400E是半导体光刻领域的领导者ASML制造的顶级晶圆步进器。XT 1400E是一种最先进的机器,为微电子制造提供精确的微光刻技术。该机器具有许多先进的功能,使其非常适合高精度的制造任务,例如在晶圆、电路阵列和其他元件上显示光阻以创建导电层。ASML XT 1400E设计为执行单步光刻系统,利用光源、透镜、分束器和消光快门的组合,创建从光掩模或标线到晶圆或测试基板的图样。该机配备了一系列光源,包括KrF和ArF准分子激光器,可用于创建亚微米分辨率图像。步进器还可以与光学相干断层扫描系统结合使用,允许用户光学检查对于显微镜来说太小的特征。XT 1400E还配备了灵敏精密光束对准和调整工具(SPAT),使机器能够精确聚焦和移动步进头穿过晶圆。SPAT使用激光干涉测量和反馈系统来提供暴露特征的确切位置,以及线宽等其他参数。这使机器能够产生公差在1nm以下的特征。ASML XT 1400E还配备了计算机自动化操作(CAM)功能,允许用户从数据库中保存和运行操作参数。该机还兼容了一系列的光掩模,如石英、聚碳酸酯和金属掩模。此外,用户还可以从包括Pro-Lithogen套件在内的各种图像格式中进行选择,从而使用户能够处理各种各样的任务。XT 1400E设计速度快、效率高,曝光时间可达20秒。该机在设计时考虑了灵活性,与一系列预定义的口罩、光学系统和步进头兼容,使其适用于一系列应用。总之,ASML XT 1400E是为微电子制造提供精确高效微光刻技术的顶级晶圆步进器。它是一台前沿机器,具有多种功能,包括亚微米分辨率、自动操作以及一系列掩码和图像格式。
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