二手 ASML XT 1400E #9381463 待售
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ID: 9381463
ArF Scanner, 12"
Wafer type: Flat
Laser type: CYMER Laser
CYMER XLA 160+/165 (45W)
OIU/Reticle-/Waf.aux.port: Left configuration
CSR 8004 Various
WH Carrier interface: (25) Wafer open cassette kit
Wafer track interface: TEL Cleantrack Lithius / 200
Mark sensor
Integrated reticle library
Reticles twinscan IRIS, 6"
ATASF ASF: IRIS-XT with PPD2 1
Second laser paddle
(24) Char reticle barcode readers
Recipe creator: Light
PEP Option: Upgraded tpt, 6", 180 Wph
Proximity matching
Exposure
ASF LS Spot coverage
Reticle streaming
Gridmapper
Spotless (Not XT:1700Fi, XT:19x0xi)
Chuck dedication
Top package: Standard (Top 2)
Enhance TPT reticle alignment
2DE Grid calibration
Gas Life Extension (GLX)
Dosemapper: Standard
LPA Local sourcing
Power: 400 V
2005 vintage.
ASML XT 1400E是专为快速、大容量晶片生产而设计的高性能晶片步进器。该设备的生产面罩水平为0.7，聚焦精度为+/-0.8微米，以尽可能精确地生产晶圆。该系统设计为最大限度地提高生产吞吐量,并配备可选的双场扫描仪,允许用户增加可一次曝光的单独字段的数量。该单元以两大光学元件为基础；从光源发射的光束送光机和用于曝光的准分子激光器。光束传递工具利用了f-Theta伸缩资产，以最小像差确保最高精度水平。这样可以最大程度地减少晶圆失真,并通过最小的标线移动来确保较高的吞吐量速率。曝光子系统包含一个1200W准分子激光器，为更快的晶圆成像提供业界领先的功率水平。该模型通过具有用户友好的操作员界面的计算机操作。虽然激光是可编程的,但如果制造商需要定制曝光,它也可以手动调整。XT 1400E是为最大产量而设计的。该设备能够实时监控和调节激光功率，自动调整曝光时间，以实现最高效的晶片生产。它还具有用于晶圆处理的集成负载锁,可最大程度地减少污染的可能性。该系统还包括一个自动柱处理单元，以确保生产过程中的最高精度。除了标准的生产功能外,ASML XT 1400E还包括旨在减少停机时间的其他功能。该机器包括一个自动化报告工具，使操作员能够监控性能并快速发现任何潜在问题。此外,集成的诊断资产允许技术人员快速提供维护和检查操作。XT 1400E是一种极其精确且功能强大的晶圆步进器,能够以最小的停机时间和最大的输出提供业界领先的性能。生产面膜等级为0.7，聚焦精度为0.8微米，非常适合大批量生产线。
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