二手 ASML XT 1950Hi #293752405 待售
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ID: 293752405
晶圆大小: 12"
优质的: 2010
Lithography system, 12"
(2) Load laser ports
Hard Disk Drive (HDD)
Immersion lithography with size:193 nm
Resolution capability: 38 nm
Overlay: 4 nm SMO / 7 nm MMO
Throughput: 148 WPH (12" wafer with 125 exposures at 30 mJ)
CYMER XLR-560i 193 nm 60 W/6 kHz Laser with E95 Bandwidth monitoring
Semi compliant MENV and FIMS Assembly
Controls: UNIX / SUN Architecture
AERIAL XP P-type Illumination system
Alignment: Blue align with narrow mark
Focus and Field-by-field levelling
Focus spot monitoring
Circuit Dependent Focus Edge Clearance (CD-FEC)
Dual E-chucks (Bonded SiC)
LS-MATCH2 (XT) Image streaming
Overhead reduction: 1 and 2
Productivity Enhancement Package (PEP)
In-situ metrology: Sensor module
ILIAS Lithoguide (SAMOS and PUPICOM)
UNICOM XT
Dose mapper ArF
(15) QUASAR XL Slots
Reticle shape correction
2DE Grid calibration
Twinscan Overlay package
Water cooling for electronics cabinet
IRL-XP Integrated reticle library for H-SPEC Systems
IRIS-XT Integrated reticle inspection system
Reticle streaming
Spotless G & H
Twinscan Grid mapper
TEAL PCDU-XT1900 Distribution unit
FSM flex package
Aux port 300 mm FOUP / 25 Wafers
XCDA Gas purification system
Purifier canister: Optics series, 10 MH, SS
Reticle with defect: 40 nm
SMASH XY
Power conditioner: 135 kVA
XCDA Gas purification system bypass manifold:
Manifold three valve: 10 m
Filter housing: Cabinet
ESI EX2600
Filter set
Standard and compliance:
CE Marked
S2 Compliant
Manual
Laser power: 60 W
Throughput: 148 WPH
ZEISS Starlight: 1950
2010 vintage.
ASML XT 1950Hi是一种先进的晶圆步进器,专为高级半导体制造过程中的大批量生产而设计。这种先进的光刻工具由ASML制造,ASML是半导体行业光刻设备的领先供应商。ASML XT1950HI专为满足最先进的集成电路(IC)制造设施的需求而设计,为生产体积更小、功率更大的半导体器件提供前所未有的精度、速度和可靠性。XT 1950Hi的核心是其先进的光学投影设备,利用深紫外线(DUV)光源在硅片上实现极高的分辨率和模式保真度。步进器具有最先进的透镜系统,能够以亚纳米精度将复杂的电路模式投射到晶圆表面上,从而能够生产具有密集堆积晶体管和互连的尖端IC。镜头单元经过精心设计和校准,以最大程度地减少像差和失真,确保图样特征从光掩模精确转移到晶圆。XT1950HI配备了多种创新技术,以提高半导体制造的生产率和产量。一个关键的特点是其先进的对齐和迭加控制机,这使得步进精确对齐连续光刻层与亚微米精度。这样可以确保不同的阵列在晶片上完全对齐和堆迭,这对于实现紧密的设计公差和最大限度地提高芯片性能至关重要。步进器还结合了自适应照明技术,以优化图像对比度和质量,提高图样特征的可见性,并实现更高的图样分辨率。在吞吐量方面,ASML XT 1950Hi旨在达到业界领先的生产力水平,能够在连续、高速的操作中同时暴露多个晶片。步进器具有先进的标线处理工具,允许快速交换标线和对齐,最大限度地减少停机时间并最大限度地提高工具利用率。此外,ASML XT1950HI还配备了先进的晶片级技术,能够快速精确地定位晶片,进一步提高半导体制造环境中的总体吞吐量和生产率。XT 1950Hi的设计还注重可靠性和正常运行时间,具有强大的硬件组件以及复杂的监控和诊断功能。步进器结合了先进的温度控制系统,以保持稳定的运行条件并最大程度地减少热漂移,从而确保在延长生产运行期间保持一致和可靠的模式性能。该工具配备了全面的计量和过程控制功能,能够实时监测关键光刻参数,从而能够主动维护和优化工具性能。总体而言,XT1950HI代表了先进的晶圆步进器,它为高级半导体制造的精度、生产率和可靠性设定了新的标准。ASML XT 1950Hi拥有先进的光学资产、创新的对准技术、高吞吐量能力和强大的设计,非常适合大批量生产需要最先进光刻功能的领先半导体设备。ASML继续以ASML XT1950HI推动半导体光刻技术的边界,使得下一代IC在全球半导体行业取得进步。
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