二手 ASML XT 1950Hi #293802187 待售
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ID: 293802187
晶圆大小: 12"
Lithography system, 12"
Load ports laser
Hard Disk Drive (HDD)
Immersion lithography: 193 nm
Resolution capability: 38 nm
Overlay:
SMO: 4 nm
MMO: 7 nm
Throughput: 148 WPH
CYMER XLR-560i
Resolution: 193 nm
Laser: 60 W / 6 kHz with E95 Bandwidth monitoring
Controls: UNIX / SUN Architecture
Aerial XP Illumination system
P type: Illumination alignment
Alignment: Blue align with narrow mark
Focus and Field-by-field levelling
Focus spot monitoring
Circuit Dependent Focus Edge Clearance (CD-FEC)
Dual E-Chucks
LS-MATCH2 (XT) Image streaming
Overhead reduction: 1 and 2
Productivity Enhancement Package (PEP)
In-situ metrology: Sensor module
UNICOM XT: Dose mapper ArF
(15) QUASAR XL Slots
Reticle shape correction
2DE Grid calibration
Twinscan overlay package
Water cooling for electronics cabinet
Integrated Reticle Library (IRL-XP) for H-SPEC Systems
Integrated Reticle Inspection System (IRIS-XT)
Reticle streaming: Spotless G and H
Twinscan Grid mapper
TEAL PCDU-XT1900 Distribution unit
FSM flex package
Aux port 300 mm FOUP / 25 Wafers
Reticle with defect: 40 nm
SMASH XY
ZEISS Starlight: 1950
XCDA Gas purification system:
Purifier canister: Optics series, 10 MH, SS
XCDA Gas purification system bypass manifold:
Manifold 3 Valve: 10 m
Filter housing
Cabinet
ESI Vaporsorb: EX2600
Filter set
Throughput: 148 WPH
CE Marked
Laser power: 60 W
Power conditioner: 135 kVA.
ASML XT 1950Hi是为大容量半导体制造而设计的尖端晶圆步进器。该设备由光刻设备的领先供应商ASML制造,代表了阵列技术的最新进展,为生产先进的半导体器件提供了极高的精度和多功能性。ASML XT1950HI的核心是其先进的平台,它结合了创新的硬件和软件解决方桉,在临界尺寸控制中实现亚纳米精度。这种精度水平对于生产特征尺寸不断缩小和复杂性不断增加的下一代半导体器件至关重要。XT 1950Hi的关键特征之一是其先进的照明系统,利用多极照明技术在整个晶片表面实现均匀、高分辨率的图样化。该单元可以精确控制光的强度和角度,从而实现高保真度的错综复杂图桉的图桉。除了先进的照明机外,XT1950HI还配备了能够实现亚纳米定位精度的高精度级工具。此级资产允许晶片与标线精确对齐,从而确保图样从掩模精确传输到晶片表面。为了进一步提高其性能,ASML XT 1950Hi采用高速自动对焦模型,快速调整投影镜头的焦点,以保持曝光时的最佳图像质量。这一特性对于实现整个晶片的高分辨率和均匀性至关重要,尤其是在对不同深度的复杂结构进行阵列设计时。ASML XT1950HI还配备了先进的标线处理设备,能够在生产运行期间快速、精确地交换标线。此功能对于在大批量制造环境中最大限度地减少停机时间和提高生产效率至关重要。在生产率方面,XT 1950Hi提供了高吞吐量能力,使制造商能够以卓越的产量和可靠性每小时生产大量晶圆。这种高吞吐量是通过快速曝光时间、高效的舞台移动和简化生产过程的高级自动化功能相结合而实现的。XT1950HI还设计为高度灵活,支持各种标线尺寸和类型,以适应不同的图样要求。这种灵活性使制造商能够将系统用于从逻辑和内存设备到高级打包技术的各种应用程序。总体而言,ASML XT 1950Hi代表了晶圆步进技术的重大进步,为生产先进半导体器件提供了业界领先的精度、性能和生产率。凭借其先进的特性和功能,该设备非常适合要求最苛刻的半导体制造环境,在这些环境中,极高的精度和效率至高无上。
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