二手 ASML XT 760F #9276965 待售

ASML XT 760F是一种大批量生产的半导体曝光工具（晶圆步进），具有先进的成像能力，以支持技术最先进的晶圆生产周期。ASML XT:760F是具有Chuck 6和迭加测量系统（OMS）的多级设备。它能够对350毫米晶片进行高精度和高速度的成像。XT 760 F专为用于逻辑、内存和高端模拟等前沿过程的关键成像应用而设计。它具有专有的X射线源，以最小的TIRF提供卓越的剂量控制和高能分辨率。XT:760F可以在一次曝光中对1到90行进行成像,而无需缝合。XT 760F中使用的高级相移算法允许对最细腻的图样特征进行成像,而无需使用缝合。ASML XT 760 F还具有先进的OMS,通过测量相对于对齐层的迭加精度,可产生快速、可靠的实时校正。ASML XT 760F的最小功能尺寸为11 nm,可达到高达50：1的曝光率,并支持0.25微米以下至18微米的广泛功能尺寸。ASML XT:760F在可靠的跟踪和在线计量单元的支持下,每小时可实现高达3,500晶圆的快速吞吐量。XT 760 F与各种先进的Photoresist兼容，包括ArF、KrF、HSQ和i-line，允许增强图样化的特征细度。XT:760F包含ASML Advanced Control Software Suite （ACS Suite）,它是为从操作员的单入口点进行直观的面向过程的控制而设计的。ACS Suite提供了用于关键成像功能（如剂量、焦点、对准和曝光保真度）的集成算法。XT 760F还包括一个用户友好的触摸屏界面，支持晶圆跟踪、机器优化和报警功能。ASML XT 760 F可以很容易地与现有和新的ASML-晶片处理系统集成,这些系统具有高科技晶片映射和污染监测技术。ASML XT 760F是为实现最佳成像性能而设计的,经认证符合公认的有关电磁、环境和安全要求的行业标准。