二手 ASML XT 760F #9293671 待售

ASML XT 760F是为光刻工艺设计的高性能晶圆步进器。该机能够达到亚于5纳米的解析度，并能够处理一系列的底物，从熔融的二氧化硅、石英或蓝宝石晶片到薄膜硅、硅的、钙钛矿的薄膜。这台机器配备了一个先进的图样系统，设计用于将图样缩小到最小的特征尺寸。ASML XT:760F的主要组件是高级基板级、步进控制器、掩模对准模块和高速处理模块。先进的基板级是一个高精度、多轴可移动的级，允许对基板进行精确和可重复的定位。该级能够支撑一系列用于阵列设计的基板,其设计目的是将交叉轴误差降至最低。此外，舞台上还有一些校准程序，可以根据底物形状的缺陷或错位进行调整。步进控制器负责控制舞台位置，调整非线性运动误差和对准误差。控制器还负责根据选定的工艺参数控制晶片的曝光。最后,控制器具有自动对焦功能,可确保在给定的曝光时间内最精确地聚焦于处理表面。蒙版对齐模块提供了对非同心圆或变形形状精确创建对齐标记和执行倾斜补偿的能力。该模块旨在最大限度地减少错位并提高每种产品的产量。最后,高速处理模块使机器能够以非常高的速度将功能大小缩小到最小。模块能够实现0.9秒的曝光时间,从而减少了曝光之间的等待时间。综上所述，XT 760 F是为光刻工艺设计的高性能晶圆步进器。该机能够达到亚5纳米的分辨率，并且能够处理一系列的基板。先进的基板级、步进控制器、掩模对准模块和高速处理模块使ASML XT 760 F成为创建高质量光刻产品的理想机器,过程之间的等待时间最短。