二手 CANON FPA 1550 M IV-W #9296891 待售
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CANON FPA 1550 M IV-W晶圆步进器是一种高端光刻工具，旨在以可重复、可靠的方式生产复杂的微尺度结构。其核心是一个6英寸的光刻平台，结合了可编程照明系统、微米级级和高通量光学器件。这使得最小的光学元件能够以业界无法比拟的精度进行可靠的模式传输。CANON FPA 1550 MIV-W晶圆步进器使用高通量光学元件对60 nm以下的小特征进行精确成像。照明系统具有可互换光源，多用途波长范围434 nm至590 nm可调，以配合抗蚀剂的性能。先进的像差校正确保晶圆表面的光照均匀，波前误差最小化，在曝光时提供卓越的图像分辨率和保真度。FPA-1550 MIV-W晶圆步进器的定位阶段设计为提供广泛的运动运动，具有比平常更大的工作空间。CANON μ MIV-W的最小步长为0.05 FPA-1550 m,最小步长为30 msec,可实现极精确的高精度阵列对齐。晶片级同时具有X-Y和正交旋转（θ）的特性，以便在曝光时对晶片进行无缝控制。FPA 1550 MIV-W的扫描仪光学可提供4倍至60倍的放大倍率,而0.25-0.7的数值孔径范围提供拓扑特征的近场成像能力。此外,该光学器件还设计用于复制具有高对比度、清晰度和保真度的感光材料。FPA 1550 M IV-W晶圆步进器是一种完整的光刻工具，能够在单曝光模式和双曝光模式之间无缝切换。该工具还具有自动剂量控制和自动聚焦算法，提供了无与伦比的可重复性和吞吐量。此外,该机器设计为易于集成到工艺环境中,从而允许自动进行全晶圆检查和验证。CANON FPA 1550 M IV-W晶圆步进器是一款独特而强大的工具，专为当今CMOS Fabs的需求而设计。该机具有高吞吐量、高精度、高精度，非常适合现代半导体光刻工艺的要求，是要求苛刻的制造方桉的理想选择。
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