二手 CANON FPA 2500 i2 #9238502 待售
看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。
单击可缩放
已售出
ID: 9238502
晶圆大小: 8"
Stepper, 6"-8"
I-Line lithography: 0.45 um
Includes:
Lens column
Wafer handler / Stage
Reticle library
Power supply
Operator console.
CANON FPA 2500 i2是用于半导体晶片光刻加工的全自动高通量步进器。设备由先进的全反射光学系统组成,工作距离大,数值孔径大。这使设备能够处理直径最大为200 mm且外部形状公差最大为3 µm的晶片。晶片安装在机器上,使用带有6轴传感器和张力计的真空接触级,以确保晶片整个表面具有稳定、可重复的图像。该工具采用低速和高速模式匹配技术相结合的高级对齐阶段,再加上多种曝光技术,可以对高分辨率模式进行可重复成像。该资产还配备了广泛的曝光模式,如正常和快速曝光、暴露的现场缝合和阵列扫描,这使得即使是复杂结构的成像也能实现精确度和高通量。该模型采用了先进的图像校准设备,以确保在多个晶片上产生的图像保持一致。此外,系统还有一个热管理单元,旨在减少温度变化对暴露精度的负面影响。CANON FPA-2500I2还包括一个功能强大的微控制器,可实现可定制的操作员设置,一台全自动晶片装卸机,以及先进的曝光监控系统,可确保工具的可靠、可重复的性能。该资产能够在200毫米(8英寸)晶圆尺寸的曝光剂量降至0.2J/cm ²时,以极高的精确度生成极其精确的光刻图像。因此,3000i2是光刻应用的理想选择,因为高密度图样的高速和精确成像是必不可少的。
还没有评论