二手 CANON FPA 3000 i5+ #9280839 待售
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ID: 9280839
晶圆大小: 8"
优质的: 2000
Stepper, 8"
PC Model: EWS B180L
Wafer standard: JEIDA
Wafer type: Notch
Reticle type: 6"
Material: Quartz
Changer type: HITACHI
Case type: HITACHI
Optical system:
Magnification: 1/5
Field size: 22 mm
NA: 0.63~0.45
Screen size: 6"
Illumination system:
Light source: 2.0 kW Ultra-high pressure mercury lamp
σ: 0.7~0.3
Estimate exposure light control
Masking function: (4) Independent blades
Wafer loader type: Notch, 8"
Wafer holder type: Notch, 8" TIO2
Wafer alignment:
Alignment light: HeNe Laser / Broad band
System: Clear vision field image processing
AGA Mode
Reticle alignment:
Alignment light: i-Line
System: Clear vision field image processing
XY Stage:
System: 3-Axis laser interferometer
Stroke:
X: 115 mm ~ -115 mm
YX: 115 mm ~ -115 mm
2000 vintage.
CANON FPA 3000 i5+是一种高速、小场光刻设备，专为最先进的光刻应用而设计。该系统的两级光学设计采用高NA、大视场镜头,可实现2倍或6倍标线的最高分辨率、最小特征尺寸和最高吞吐量。这种坚固的设备提供5.5毫米的现场尺寸,它基于CANON前沿光机机械设备设计,提供可靠、稳定的操作和广泛的曝光范围。而凭借其先进的飞行机器、对准和测量能力，该工具提供了更加轻松的维护和操作。CANON FPA 3000I5+是为了满足世界领先半导体制造商最严格的要求而设计的。它采用业界最高分辨率的投影光学器件,结合先进的剂量控制和测量方法,在300 mm光刻技术中应用最为苛刻。高精度光学单元为高级扫描曝光提供卓越的分辨率和曝光保真度。佳能独特的不对称校正技术有助于优化迭加精度，降低小猎物错误率。空气轴承设计提供了高度精确的定位和稳定的操作，允许更高的处理可靠性和产量。先进的X-Y级设计具有闭环位置精度和速度/加速度控制。FPA-3000 I5+还具有许多标准功能和选项,包括多频对准测量、扫描透焦扫描和专有的曝光控制技术。总体而言,FPA 3000I5+是300 mm光刻应用的理想资产。凭借其坚固的设计、高精度的光学和先进的曝光控制,它非常适合小场光刻,让您以最低的总成本实现最高的分辨率和吞吐量。智能设计加上全面可靠的性能，使这款车型成为任何寻求先进技术和性能的人的绝佳选择。
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