二手 CANON FPA 3000 i5 #9311794 待售
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ID: 9311794
i-Line stepper
Illuminator
Reticle stage, 6"
(2) Reticle senders (Switching)
U-Lens
ZYGO 7701 Laser head: HeNe
CCD OPTF III
Wafer stage: Flat stage
(3) Tilt stage unit: MLEs
(4) Support mount: Active dampers
XY Stage filter: HEPA
(2) A Scope: TTL
B Scope: HRD and Off-axis
C Scope: HRD and Off-axis
OA Scope: Off-axis
RC-40CO Reticle changer
BG4-6735 Reticle robot
BG4-6736 Cassette robot
(14) Cassette libraries
(4) Intermediate libraries
CBR: TOHKEN TCD-8200
PPC
Wafer feeder: Type-VI-R
SCH: Type-VI
PA Unit: Notch, 8"
SH and In-line: Type-VI-R
(2) RBR: TOHKEN TCD-8200
Lamp house: 2 kW
EWS: AGILENT / HP / HEWLETT-PACKARD / VERIGY / ADVANTEST 9000 / 712 / 100
UPS: M-UPS010J11W-UL(CE)
Environment chamber:
Chamber: CD-83+
(3) Ceiling filters (Air): HEPA
(2) Power receive box: Box 3 and 1
D-Rack.
CANON FPA 3000 i5是世界领先的晶圆步进器和最先进的光刻系统，专门为DNA纳米技术设计。它能够对100 nm以下的图样进行成像,覆盖范围小于2 nm,覆盖范围高达150 nm,覆盖范围小于5 nm。此功能强大的工具非常适合高精度应用,如光掩模阵列、次分辨率光刻、半导体和数据存储技术。i5晶片步进器的特点是其超高分辨率和动态范围、高速度和可靠性、低维护成本和易用性。CANON FPA 3000I5主要由照明模块、晶圆级和圆柱组成。照明模组为晶圆提供了明亮的光源，允许极宽的视野和较大的数值孔径。光源的高强度与宽视野相结合，使系统能够以非常高的精度对特征进行成像。此外，光源还配备了一组滤光片，使用户能够改变发出的光的波长，从而使用户能够控制光源的功率、强度和正在成像的晶圆的光谱灵敏度。晶片级由晶片架、激光二极管对准器、运动轴和z电动机组成。晶圆座稳固地插入和从舞台上移除晶圆，而激光二极管对准器则提供了一种光学手段，可以快速准确地将晶圆对准舞台。运动轴和z电动机使用户能够在任意方向上精确移动晶片,从而有效地扫描基板的整个视场。舞台还具有自动重置功能,可以快速回忆各种曝光过程的曝光设置。FPA-3000 I5可通过用户友好的图形界面访问,并由功能强大的车载计算机控制。还可以调整曝光时间、曝光速率和光照强度等操作参数，允许用户根据特定的制作工艺或应用要求量身定制光刻工具。此外，用户可以访问各种自定义选项，允许用户调整晶圆级的速度和辐照区域的位置。CANON FPA-3000 I5是光掩模制图、次分辨率光刻和半导体制造工艺的绝佳工具。凭借其高分辨率、动态范围和效率,i5使用户能够快速准确地为众多应用程序制造设备组件。直观的用户界面、可定制的仪器设置以及较低的维护成本使i5成为任何参与制造纳米技术组件的工程师或科学家的宝贵工具。
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