二手 CANON FPA 5000 ES3 #9123442 待售

CANON FPA 5000 ES3 Wafer Stepper是一种高精度光学光刻机,旨在生产小型、精确的电子元件。此步进模型使用高级扫描照明系统将光掩模或标线上的图样光学传输到晶片上。该机具有0.50至5微米的长工作深度和特征尺寸，非常适合打造高密度集成电路（IC）、微机电系统（MEMS）等先进电子元件。FPA平台提供450mm x 450mm的大工作区，可处理直径达6英寸的基板。这种先进的步进器的均匀性提高了4.5微米或更高，最大全场辐照度为2000 mW/cm2。此外,它还提供10-30 μ m的可变焦点空间,精确的焦点深度为± 1 μ m,小点直径为5 μ m或更小。它还包括一个将光掩模降解降至最低的高效扩散器。CANON FPA 5000ES3 Wafer Stepper设计用于大批量生产环境,可提高生产率和缩短周期时间。该机器采用高速研发曝光模式，使用户能够快速轻松地开发设备原型。它还有一个巨大的板载存储器，存储多达60,000个晶圆模式和500个标线。这种步进模型采用先进的先进自动对准工艺，以确保一致和准确的平版印刷结果。FPA-5000 ES3 Wafer Stepper专为低成本生产和超高精度应用而设计,在性能、可靠性和成本之间提供了平衡。它具有坚固可靠的平台和直观的用户界面,以及全面的维护和安全功能。这种步进模型还支持完全自动化的曝光、检查和测量系统，以提高准确性和验证。此外,它还提供了一整套工程工具,如配方转换器、参数管理器、参数对齐和litho模拟器。