二手 CANON FPA 5000 ES3+ #9200132 待售

CANON FPA 5000 ES3+是一个专门用于半导体制造的光刻晶片步进器和计算光刻平台。用于洁净室中，制造微处理器等集成电路（IC）。该设备的设计目的是利用光学成像设备和晶圆映射系统在硅晶片表面上创建投影掩码。FPA 5000 ES3+配备卡尔蔡司照明单元，多个目标，共3个步进放大倍数。它具有先进的晶圆分散功能，并配有全自动的舞台对准机，以确保在显微光刻生产过程中精确对准。该机还设计了最先进的计量特征，允许高精度的迭加模式、性能监控、腔室匹配、缺陷评估、标线检查和临界尺寸（CD）计量。CANON FPA 5000 ES3+配备了专门的数据处理工具，利用先进的计算和独特的芯片缝合模式来产生改进的模式密度。这项技术可以达到0.63微米的分辨率，同时还能去除投影面罩中的潜在误差。这对于集成电路的生产是强大的，因为它能够精确地再现纳米尺度的特征。FPA 5000 ES3+具备各种高科技安全特性，在加工过程中保护晶片。该机采用内置防撞协议设计，在传输样本的同时减少人为错误的可能性。这台机器还配备了专门的清洁设备，以确保微粒、气体和化学污染物能够充分地从室内清除。CANON FPA 5000 ES3+有全面的服务包支持。工程师可以监视和调整机器的各种参数。为确保快速高效地解决任何问题,可以不断监控模型的健康状况,并打印出完整的设备性能报告。总之，FPA 5000 ES3+是用于半导体制造的先进光刻晶片步进器和计算光刻平台。这台机器具有先进的晶圆对准和计量功能，使其能够产生具有纳米级模式的集成电路。各种安全协议和客户服务包确保了集成电路的可靠和安全生产。