二手 CANON FPA 5000 ES4 #9038993 待售
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ID: 9038993
KrF scanner, 8"
Process: DUV, LITHO - Krf Scanner
Software version: V54.06C
Wafer specification:
Wafer shape: SNNF (Semi notch no flat)
Wafer cassette: 8" PP Miraial
SMIF Interface: No
System Configuration:
Magnification: 1/4
NA: 0.80~0.50
Field size: 26 x 33 mm
Illumination (Conventional): 0.85~0.30 (at NA=0.80)
Illumination (Special): Auto selection from 4 conditions
Condition sample: NA 0.80 Outer, 0.850 Inner, 0.567 (Annular)
Light source: KrF (248 nm) Laser Cymer ELS-7300 30 W, 4 kHz
Reticle blind setting area: Max. Field size, Min: 0.4 x 0.4 mm
Reticle Alignment:
Alignment sensor: Image processing method
Alignment light source: 660±15 nm
Reticle holder size: 6"
Scan speed: 1400 mm/sec
Interferrometer: 3 axis
Wafer Alignment:
Alignment sensor: Image processing method
Alignment light source: 590±60 nm (wavelength selectable)
Scan speed: 350 mm/sec
Interferrometer: 5 axis
Pre-alignment: Edge detection system (non-contact)
Chuck maintenance: Auto chuck clean and load/unload system
Inline type: Left inline
Library #: 25
Reticle case type: Nikon type
Particle checker: pellicle particle checker (PPC)
Chemical filter type: Amine and Organic
2003 vintage.
CANON FPA 5000 ES4是一种先进的晶圆步进器，设计用于半导体加工。它是一种开放式体系结构工具,为设备生产提供高精度、高速和低成本的处理。该工具具有高数值光圈（NA）物镜,具有宽角视野,可精确绘制具有最高放大分辨率的设备特征的图样。CANON FPA-5000 ES4步进器还提供双成像路径、快速自动聚焦设备和大的多通道曝光区域。FPA-5000 ES 4经过优化,可以处理任何晶圆尺寸,最大视场直径可达7.4毫米,并且几乎可以处理任何薄膜沉积过程。它还可以处理汽车和生命科学应用，以及MEMS过程，允许极其广泛的应用。该系统配备了成像制导单元、高度灵敏的自动对焦机以及多种图样化技术。它还可以同时进行多次曝光,以支持精确和忠实的复制。先进的FPA 5000 ES4步进器是为满足最新要求而设计的,具有自动对准、集成晶圆传输工具以及用于精确晶圆夹紧和精确级的专用工具等高级功能。最先进的光学器件和精确的对准还可以实现高吞吐量和最高分辨率的图像。此外,步进资产的设计既缩短了周期时间,又降低了拒绝率。FPA-5000 ES4步进器是一种出色的半导体加工工具。它以低成本提供高精度和高速的处理，使其成为所有类型晶圆处理的理想选择。它配备了先进的功能和工具，以最大限度地提高精度和效率，其稳健的设计即使在最苛刻的环境中也能提供无忧的操作。无论是设备生产、汽车、MEMS还是任何其他晶圆工艺，CANON FPA-5000 ES 4提供的不仅仅是尖端技术；确保所有工作都能得到快速、准确的处理。
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