二手 ELECTROMASK / TRE 10X #9041056 待售

ELECTROMASK/TRE 10X是一种晶圆步进器，设计用于生产用于半导体器件制造的高分辨率数字图像。这类光刻设备的工作原理是利用光源将图像投射到装有光刻胶的晶片上。光源通常由激光或发光二极管（LED）组成。保存图像信息的掩码放置在支架中,并与晶片级对齐。当图像投影到晶片上时,它会暴露在光致抗蚀剂上。然后开发光致抗蚀剂，并将图像转移到晶片上。TRE 10X基于先进设计,X轴和Y轴的移动分辨率均为0.28 μ m（微米）。晶圆级由直线电动机驱动，最大载荷容量为250毫米。该系统以最大120kHz频率运行，能够快速处理光掩模，同时确保打印图样的高精度。该单元在将图像传输到晶圆时具有极好的可重复性和准确性。ELECTROMASK 10X配备了创新的光学对准机（OAS），用于掩模或标线与晶圆的精确对准。此工具使用光学传感器来捕获晶圆和掩码的图像,然后在计算机中重建它们。该传感器还设计用于检测蒙版或晶片在曝光前的任何刮擦或刮擦，以尽量减少光刻过程中的风险。此外，10X还设计了单次曝光、重迭曝光、影子曝光等不同的打印模式。通过具有多种曝光模式,此晶圆步进器能够为用户提供自定义其模式设计的能力,以满足不同的特定要求。该资产还提供了一个多区域曝光头，旨在适应大型芯片尺寸和扩展的视野。ELECTROMASK/TRE 10X还配备了直观的用户界面。显示器显示与各种控制功能集成在一起，包括模式校正、检查图像的存在、再次测量和监视、输入放大数据、分析图像等功能。此模型还允许用户根据需要进行的特定光刻工艺来选择适当的晶圆尺寸、床类型、掩模图样和曝光参数。这种晶圆步进器非常适合开发微处理器、集成电路和其他半导体器件的人。高分辨率和准确性使其成为制造高端半导体器件的理想选择。此外，它高效直观的用户界面允许用户以最小的努力完成他们的模式设计。