二手 GCA 6300B #9186800 待售

GCA 6300B是由GCA设计的晶片步进器，GCA是一种半导体光刻设备，用于在IC的制造过程中处理集成电路（ICs）晶片。它可以使用一个或两个光束源在晶圆表面上成像图样。该机器能够支撑直径达200毫米的晶片，一次可处理多达16个晶片。6300B配备了一个的Ge准分子激光器，它产生两个193nm波长的光束，可以聚焦在同一点上。它能够产生0.50微米的分辨率，这对于一系列光刻应用来说是非常精确的。激光也可以配置为脉冲调制模式，用于单束应用，或双束应用的双脉冲模式。步进器采用重型应力平衡长轴/短轴龙门子系统设计，可在可变条件下精确对准晶片。步进器利用高精度空气轴承来控制长轴运动，使其在振动或温度波动时保持稳定。它还配备了先进的成像焦深控制系统，确保激光束保持与晶圆表面完美平行。GCA 6300B提供了广泛的曝光场大小，范围从1mm x 1mm到480mm x 480mm，允许它处理大面积的晶片和微量的模式。它还提供了一个称为"可变斜率曝光"的独特功能，它允许激光在晶圆上的不同位置改变曝光长度或"燃烧时间"，以处理高度复杂的设计。6300B是一种可靠且精确的晶片步进器，为处理大小区域的晶片提供了尖端功能。其先进的光刻能力，加上稳定耐用的设计，使其成为错综复杂的晶圆加工项目的绝佳选择。