二手 GCA ALS #293639853 待售

GCA ALS
製造商
GCA
模型
ALS
ID: 293639853
I-Line wafer stepper Illumination uniformity: <= 2.5% Maximum stage travel: 200 mm System resolution: 0.65 μm L/S Depth of focus: >= 0.98 μm Reduction: +/- 0.10 µm Rotation: <= 0.05 µm Telecentricity: +/- 0.5 ppm Global registration: +/- 0.30 µm T.I.R Local registration: +/- 0.15 µm T.I.R Open frame: No repeaters Orthogonality: +/- 1.0 ppm Stage precision: +/- 0.15 µm Wafer levelling repeatability: +/- 10 ppm Reticle aligner accuracy: <= 0.1 µm Aperture blade repeatability: +/- 0.25 mm Aperture blade skew: +/- 0.25 mm RMS Realiability: 30 Cycles AWH Precision: +/- 3.0 mils AWH Reliability: 50 wafers Focus repeatability: <= 0.30 µm T.I.R Reduction repeatability: <= 6.0 ppm T.I.R Optic: Lens specification: 2145-I Tropel Focal length: 86 Resolution: 0.65 µm Image field: 24.1 mm Wavelength: 365 mm E.P Diameter: 49 mm E.P. Location: 473 mm Reduction: 1:5 Depth of focus: n+/- 0.5 µm.
GCA ALS是GCA公司为先进的光刻应用而设计的晶圆步进器。步进器具有计算机控制的晶片级,以X、Y和Z方向行进,可重复性为0.1微米。它具有超高刚度底座,可实现最高精度对准和平版印刷精度。这种步进器是一种先进、高效的设备,能够快速、精确地进行微光刻,用于制造纳米级结构和装置。先进的镜头系统允许广泛的特性,比如0.6微米的全场曝光来抵抗。步进器还有一个低温/高精度的紫外线曝光单元,最大线速为30毫米/秒。整个机器包括光源、镜头、快门、测量工具、图像处理资产和曝光控制。所有这些组件都可以组合起来以实现不同的目标,例如最大程度的曝光稳定性、分辨率和生产率。晶圆步进器还具有高级工艺控制和软件功能。它包括一个集成的过程管理模型,可以控制曝光时间、激光功率和网格控制等曝光参数。网格控制功能通过检测和预测大表面积上的小处理误差,改进了过程控制。这有助于减少甚至消除光刻过程中的缺陷。除了晶圆步进器之外,ALS还具有内建的对齐、曝光和开发的过程演算法。这确保了临界平版印刷过程的最大可重复性。它还可以与数据处理和存储的检查和存储系统集成在一起。简而言之,GCA ALS是一种高度先进的晶圆步进器,其设计具有成本效益,能够实现高精度和高通量的光刻工艺。它是一个强大的设备,为纳米结构制造提供了极大的灵活性和精度。
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