二手 NIKON NES1 H4 #9239625 待售

NIKON NES1 H4是一种用于制造半导体器件的高性能晶圆步进器。它是一种两级、龙门式、全场光学光刻设备，包括接近面罩对准器、顶面对准系统和浸入式投影透镜。专为有效利用曝光时间而设计,支持高放大倍率、高分辨率和高通量,使其适用于各种制造过程。NES1 H4采用多种功能来确保半导体材料的最佳晶片级应用,包括高精度的三轴龙门,它为设备提供快速移动和高精度的对准精度。顶部表面对齐机有助于确保每一层材料在基板上的精确放置,从而确保均匀的层分布。此外,该工具的高分辨率光学器件可确保以比其它晶片步进系统更高的速率准确、精确地创建极小的特征。NIKON NES1 H4的另一个特点是它的全场浸没投影透镜，允许从掩模到晶圆表面的光滑光路。由于该资产设计用于处理多曝光和多层光刻,因此全场浸入式投影镜头允许用户以比通常可实现的速度更快的速度以高分辨率精确地应用材料。NES1 H4与各种高分辨率支撑表面兼容，包括环氧树脂、石英、低k电介质和保护性光致抗蚀剂。它可以提供高达28毫米x 28毫米的场大小，相关的焦点深度为6至30 μ m，其激光干涉测量感测可以提供高达0.1微米的精度。除了确保每一层的精度外,该模型的步进头还设计用于快速操作和特征无振动设计。总体而言,NIKON NES1 H4是一款用途广泛、功能强大的多层光刻设备,可在各种半导体应用中提供高精度、高通量和精密放置材料。其先进的特点和广泛的兼容材料使其适合各种应用。