二手 NIKON NSR 1505 G6E #293602162 待售
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ID: 293602162
Stepper
Reduction projection optical system:
Numerical aperture: 0.54
Reduction ratio: 5:1
Lens distortion: Within ±0.12 µm (for X and Y)
Exposure wavelength: G-Line (458 nm)
Exposure area:
Diameter: 24.74 mm
15 mm x 15 mm
13.42 mm x 20.14 mm
Illumination optical system:
Exposure power: 300 m-W/cm²
Illumination uniformity: Within ±2.5%
Integrated exposure stability: Within ±2% (For ≥30 mJ/cm²)
Exposure time setting range: 0.05 sec to 9.9999 sec and 0 sec
Ultra high pressure mercury lamp: 1000 W
Auto focus system:
Oblique incident light detection method
Repeatability: ±0.02 µm
Vertical stroke: 0.6 mm
Focus offset entry range: ±30 µm.
NIKON NSR 1505 G6E是一种先进的晶圆步进器，旨在实现纳米级的精确光刻处理。该工具采用了最先进的技术，以便对硅片进行精确和高效的阵列成像。该设备具有高性能成像阶段和两个独立可控的光刻阶段，允许精确、多曝光对准以实现高分辨率成像。该系统还利用高精度聚焦检测单元来确保精确的图像聚焦。NIKON NSR-1505G6E配备了支持高达6,000毫米/秒扫描的高速扫描机和能够达到1.7纳米定位精度的高精度定位工具。该工具还能够提供电梯光束扫描功能，使多模式曝光在一个曝光步骤。这一特征与一种独特的"重迭"算法相结合，该算法允许模式曝光成功覆盖任何超过15个模式的设计。NSR 1505 G6E还设计为既方便用户又灵活。该工具配有直观的图形用户界面，便于用户控制，并允许对光刻配方和程序集进行更改。此外,此步进器的设计与许多流行的光刻曝光方法兼容,包括深紫外线（DUV）、KrF和i-line以及预定义的曝光模式。该工具还具有免维护操作,包括多层晶片支架,用于在曝光期间固定晶片。总体而言，NSR-1505G6E是一种功能强大且先进的晶圆步进器，提供从纳米到微米尺度的精确光刻能力。它具有快速的扫描资产和定位精度,能够实现高效、精确的光刻成像,这对于芯片和其他电子产品的制造至关重要。该模型的免维护操作和用户友好的界面使其成为寻求可靠且用途广泛的晶圆步进器以满足其光刻需求的组织和个人的首选工具。
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