二手 NIKON NSR 1755 i7A #9256260 待售
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已售出
ID: 9256260
晶圆大小: 4"-8"
优质的: 1992
i-Line stepper, 4"-8"
Reticle, 5"
Thickness: 0.09"
Material: Quartz glass / Low-expansion glass
Type: Low-reflection chromium mask (Single layer chromium also acceptable)
Resolution: 0.50 µm
Lens distortion: ±0.07 µm
Magnification control: ±0.03 µm
Maximum exposure area: 24.74 mm dia
Reticle bind setting accuracy: +0.4 +0.8 mm
Exposure power: 600 mW / cm³
Integrated exposure stability: ±1.4%
Illumination uniformity: ±1.5%
Focus calibration repeatability: Within 0.15 µm
Reduction ratio: 5:1
Field: 17.5
O.45 Resolution (NA): 0.5
Global alignment: 0.18 um
Reticle rotation:
Absolute value: Within ±0.02 µm of target value
Repeatability: Within 0.02µm
Alignment accuracy:
WGA X+3ơ ≤ 0.18 µm
EGA X+3ơ ≤ 0.11 µm
Array orthogonality: ±0.2 Sec
Stepping precision: 0.8 µm (3s)
Reticle pre-alignment accuracy: ±2 mm
Interchangeability: ±0.12 µm
Stepping rate:
<11 Sec (100 mm)
<20 Sec (125 mm)
<28 Sec (150 mm)
Throughput:
WGA:
<21 min (125 mm)
<21 min (125 mm)
<22 min 40 sec (150 mm)
EGA:
<21 min (125 mm)
<21 min 15 sec (125 mm)
<24 min 50 sec (150 mm)
1992 vintage.
NIKON NSR 1755 i7A是为单晶片光刻应用而设计的高性能晶片步进设备。它配备了NIKON最新一代的NIKON半导体光刻光学（NSL Optics），它采用了超精确成像技术来实现复杂集成电路（IC）模式的精确制造。NIKON NSR 1755I7A建立在NIKON "i平台"上，为单片光刻提供了优越的稳定性和精度。i平台采用高精度、直接驱动的步进电机来移动晶圆级，进一步提高了系统的精度和稳定性。平台还包括高速加速控制单元，用于快速模式识别和相位匹配。该机配备了两个先进的尼康半导体光刻光学（NSL Optics）系统，为2D和3D IC模式的曝光提供卓越的性能和高分辨率。先进的光学系统分辨率范围很大，从0.2微米（2 nm）到20微米（200 nm）。此外,该工具还可以配置几种不同的照明选项,包括恒定K、校准K和强度K照明。为了实现可重复的准确性和可靠性,NSR-1755I7A集成了高级自动对齐资产。自动对齐模型可以准确识别晶片的位置，并与成像光学器件对齐，无需人工干预对齐。这有助于减少对齐错误的数量并减少晶圆放置所需的时间。NIKON NSR 1755 I 7A还配备了高速晶圆处理设备，以高达2.5晶圆每秒的速率进行快速晶圆交换。这有助于减少过程时间并提供巨大的吞吐量,同时保持高精度。再者，步进器还配备了工艺诊断系统，可以快速检测晶圆暴露过程中的缺陷和异常。总的来说，NSR-1755 I7A晶片步进器是一个先进的单元，提供卓越的性能，单晶片光刻。它具有很高的可重复性和准确性，并提供广泛的分辨率和照明支持。先进的自动化和过程诊断确保机器能够以最佳的吞吐量提供可靠且无缺陷的IC模式。
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