二手 NIKON NSR 2205 EX12B #9265226 待售
网址复制成功！
单击可缩放
ID: 9265226
优质的: 1997
DUV Stepper
Resolution: 280 nm
N.A: 0.55
Exposure light source KrF: Excimer laser (248 nm)
Reduction ratio: 1:5
Exposure field: 22 mm Square to 17.9 mm (H) x 25.2 mm (V)
Alignment accuracy (EGA): 55 nm
Robot arm, P/N: DDCVR-CR1041
Laser head
Alignment systems:
LSA
FIA
CYMER ELS5400 Laser
Lens type: 5EB2
LSA / FIA
Table leveling: AF
Reticle table: 56-6
CYMER EX Laser
Illumination units:
5EB2 IU
CYMER BMU
SHRINC Printed circuit board
RA: 5EB2 RA6
RLIB-ADP: Straight ARM 6
Ceramic wafer holder, 6"
Control rack
Power rack and power supply
LIA
WL3 Type carrier table: Right
Accessories
Wafer loader: Type 3
Pre-alignment 6: Type 3
Wafer loader 6: Type 3
In-line type: Left
1997 vintage.
NIKON NSR 2205 EX12B是专门为半导体光刻开发的高精度、经济实惠的深紫外线（DUV）晶圆步进器。此步进器提供0.15微米的最新分辨率和高达2000晶圆/小时的扫描速度。它可用于制造线宽低至70nm的器件，使其成为先进半导体应用的合适选择。步进器为全系列的DUV宽频光源设计，包括ArF准分子和F2激光器，可用于生产和开发应用。NIKON NSR-2205EX12B采用13英寸扫描仪和10级线性索引器设计,每层最多可曝光8次,能够对异常精确的图样进行成像。此外,它还具有双光束扫描系统,允许在10 X和15X模式下同时成像,从而使步进器能够提供卓越的蚀刻分辨率。其高精度和低噪声水平保证了准确的基板对准。这种步进器配备了高度可靠的缺陷检测系统，具有自动调整其扫描参数的能力，以最大限度地提高吞吐量，最大限度地减少拍摄到拍摄大小的可变性。该步进器还提供一系列环境效益,包括低工作温度、无振动操作以及与室温滤波器的兼容性。此外,它还采用了低功耗、低噪声的优化照明系统.这种步进器与大容量等离子体产生系统高度兼容，使其适合大容量光刻。它还支持将数据卸载到计算机辅助设计软件,使用户能够快速准确地对其设计进行更改。所有这些功能使NSR-2205 EX12B成为那些使用半导体的人的经济高效且可靠的选择。它是为长期的精度和精确度而设计的，其深层的紫外线成像能力使其适合先进的器件制造。对于那些为晶圆成像要求寻求高性能解决方桉的人来说,此步进器是一个最佳选择。
还没有评论