二手 NIKON NSR 2205 i11D #293763395 待售
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ID: 293763395
优质的: 1995
Stepper
Reticle size, 6"
Reticle case, 6"
Reticle library slot: 26
Electric source: NEMA Box
Computer type: Vax station 90
Chamber type: SENDAI S07
Movable microscope: 22 x 20 mm
Extend R-Library slot
Wafer type: Flat
Wafer chuck: 6" (Ceramic)
Wafer loader: Type-2 A1
Chip levelling
Wafer carrier table: Right
Alignment sensor: FIA, LSA
HP 5517B Laser
Rack type: Right
Lamp power: 1.75 kW
Temperature: 23°C
No reticle barcode reader
No reticle SMIF
No signal tower
No in-line
No shrinc
No PPD
1995 vintage.
NIKON NSR 2205 i11D晶片步进器是一种精密光刻仪器,设计用于半导体器件制造。最小分辨率0.28微米,最大曝光面积220毫米x 220毫米。NIKON NSR-2205I11D利用其专有的应用剂量控制(ADC)自动暴露设备,确保无论暴露情况如何,均可重复准确地暴露结果。为了精确的模式定位和对齐,NSR 2205I11D配备了双标线自动对焦系统.这种健壮的单元具有手动和自动搜索模式,能够快速和方便地获取目标模式与小视野。对准精度估计为0.1微米(3西格玛)。配备11英寸投影光学器件和NIKON先进的5倍减振机,NIKON NSR 2205 I 11 D的投影场尺寸为2.2 um/放大步长。微型投影光学器件允许在较大的区域使用较高分辨率的图样,并减少焦点深度(DOF)。投影镜头的可编程变焦范围为0.2至3.0,聚焦范围为0.1至4.2毫米。NSR-2205I11D可以利用这一放大倍数范围,使用所谓的"横向移位能力",允许在不同放大倍数下使用相同的掩模,而无需完全旋转卡盘。在吞吐量方面,NSR 2205 I11 D具有较低的跟踪时间,步长为0.6秒,曝光时间为0.2秒。NIKON NSR 2205I11D具有很高的模式均匀性,能够产生较好的产品产量,且污染和返工操作较少。此外,它的高级对齐和迭加功能可实现高水平的产品放置精度和批量复制。这使得成本更高的方格对齐方式得以避免,这有助于提高成本效率。综上所述,NSR-2205 I11 D晶片步进器是一种先进的光刻工具,旨在在广泛的生产条件下产生优异的效果。NSR 2205 I 11 D配备了小型但坚固的投影镜头、双标线自动对焦资产和先进的5 X减振模型,能够产生高达0.28微米的分辨率,并以0.6秒的步长和0.2秒的曝光时间提供卓越的产品产量。这除了其出色的对齐和覆盖精度外,使其成为设备制造的理想选择。
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