二手 NIKON NSR 2205 i11D #9174897 待售
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ID: 9174897
晶圆大小: 2"- 4"
Stepper, 2"-4"
Specification:
Expose area:
28.28 mm Φ
20.0 * 20.0
19.61 * 20.40
Resolution: 0.5
DOF: Within +/- 2.0µm
Lens distortion:
Min X.-0.063µm Y:-0.089µm
Max X:0.028µm Y:0.068µm
Illumination uniformity conv (ID1): 1.495%
Integrated exp controller: 0.30%
Wafer holder flatness: 1.02µm
Leveling:
X -1.058sec Y: -0.016sec
R 0.736sec P: -0.759sec
Auto focus stability: Within +/- 0.4µm
Reticle blind:
XL:0.6 mm XR:0.65 mm
YL:0.5 mm YU:0.55 mm
Array orthogonality: 0.013 Sec
Stepping accuracy(STEP): X:0.082/*n Y: 0.055µm (3)σ
Reticle rotation(ABS/Rep): 0.003µm
Overlay accuracy: Mean +3σ<0.18µm
Defocus rate < 6.0%
Wafer load type: Type ll
Reticle size: 6"
Wafer type: Flat
Chuck size: 2"- 4"
Currently installed.
NIKON NSR 2205 i11D是一种高度先进的分子步进设备，设计用于制造半导体器件。第五代NIKON晶片步进器能够实现25 nm的最小图像尺寸。它提供了全面的高性能能力，使其能够满足最新纳米加工技术的需求。该系统提供0.31超分辨率和0.8 nm最小覆盖精度的卓越光学分辨率。它配备了双模场交换单元，使其在保持最佳分辨率的同时实现更快的曝光时间。这是通过NIKON i-Tone场增强成像技术实现的。该机提供灵活的成像平台，具有一系列曝光模式，包括单模、接触模式和深紫外线。此外,它还支持各种高分辨率DUV镜头,包括数值光圈（NA）值高达0.135的镜头。这允许对可能具有纳米尺寸的结构进行高精度成像。刀具的Sub-10nm模式控制提供了精确的模式优化。这是通过其专有的Wavefront Control技术实现的，该技术用于将光束塑造成纳米级。这提高了NIKON NSR-2205I11D制造亚微米器件的精度和能力。NSR 2205I11D提供高性能低粒子生成（LPG）阶段。这一资产最大限度地减少了晶片在接触或对准活动期间的颗粒污染，有助于提高设备产量和延长关键部件的寿命。该模型还采用了NIKON独特的Field Imaging Equipment （FIS）技术，使其能够创建精确的曲面三维图像。这在光刻应用中用于提高最终产品的准确性和质量。总体而言,NIKON NSR 2205 I 11 D系统是一种功能极其强大的高级晶圆步进器。它提供出色的成像能力、精确的模式控制和最小的粒子生成。它的功能使其成为半导体制造活动的宝贵工具,提供精确的图样打印、可靠的对准和纳米级结构的精确成像。
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