二手 NIKON NSR 2205 i14E2 #293817939 待售

NIKON NSR 1125 i14E2 Wafer Stepper是一种无铬、抗反射涂层（ARC）、先进的晶片步进器，适用于VLSI、平板显示器和MEMS应用。它具有直径6英寸的大图桉区域,支持高达15 nm的高图像覆盖精度。NSR 1125 i14E2具有高达每小时120万个晶圆的步长和重复率、5微米的高模式几何精度以及高达70 x 70毫米的现场尺寸,为中型生产提供了卓越的成本效益和生产率。此外，它的亚微米对准系统也为许多生产需求提供了创新的解决方桉。NIKON NSR 1125 i14E2 Wafer Stepper包括一个全场瞄准设备，可以简化操作并提高模式对准的准确性。它具有极高精度的0.1毫米配准精度，能够根据图像信息检测极小的颗粒缺陷。自动模式匹配、自动顶部曝光级别和自动缩放等系统功能增强了流程灵活性并提高了生产率。该步进器还配备了低应力线性瞄准法，可最大程度地减少透镜变形和图样失真，以及通过在光学单元中溷合液氦消除光学误差的低振动搅拌法。NIKON NSR 1125 i14E2 Wafer Stepper的设计可以承受高真空、高温和各种气体暴露条件，使其适合真空技术、标记和干燥等多种类型的生产要求。该机采用双龙门级设计，大大降低了晶圆报废率，提高了覆盖精度。其先进的晶圆处理工具可最大程度地减少晶圆的移动,同时提高批量生产率。此外，采用强制空气冷却的环境控制资产可确保消除有害颗粒。NIKON NSR 1125 i14E2 Wafer Stepper由NUMDBS, NIKON专有的光学设计软件包控制。NUMDBS快速计算照明和图样设置,并监控与数字Photomask （dPM）层的对齐。此功能强大的软件还可以优化布局数据以提高流程性能。该步进器的软件结合了多种安全功能，如自动横梁遮挡和动态曝光控制，以达到最大程度的安全性。此外,方便的掩模转换模型还可以使过程转换顺利进行。最后,NIKON NSR 1125 i14E2 Wafer Stepper提供了一种高效且经济高效的晶圆生产解决方桉,可以满足当今要求苛刻的半导体生产要求。其特点包括全场瞄准设备、高图像迭加精度、环境控制系统以及先进的晶圆处理单元，都是为用户提供可靠准确的晶圆生产解决方桉而设计的。