二手 NIKON NSR 2205 i14E2 #9210465 待售
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已售出
ID: 9210465
晶圆大小: 8"
优质的: 2001
Stepper, 8"
Magnification: 1/5 Reduction
Light source: i-Line (365nm)
Resolution: 0.35um
Variable Lens NA: 0.50~0.63 Variable
Exposure filed size: 22mq (Up to 17.9H by 25.2V)
Control: Bellows unit
Lens adjust: Micrometer / PIEZO / Washer
Lamp: 2.5kW Hg
PC System hardware:
Type: DMCC
UPS: No
Reticle size: 6"
Reticle microscope: Fixed
Alignment sensor:
LSA
FIA
LIA: No
TTLFC2
Illumination system: SHRINC4 Type
Interferometer system:
Interferometer type: 5517C
Wafer stage
Reticle stage
Multi focus system
Leveling system: Table
Wafer loader: Type3
OF Type
(2) Wafer cassettes
Left in-line wafer (DNS)
Wafer pre-align type: NC PRE2
Wafer edge exposure: No
Reticle loader: Normal
(3) Libraries / (30) Slots
Barder reader
Particle checker: (PPD3)
Control rack:
Type: Normal (Right)
Cable length: Normal
Signal tower: (4) Colors
Chamber:
ASHAHI N4A-C Double NEMA (CVCF)
BATC / CATC / LLTC: 23.0 / 23.0 / 23.0 °
Missing parts:
ALG A-504 PCB
ALG A-505 PCB
ALG A-506 PCB
LLTC TEMP Sensor
WL Robort arm
WS X Linear AMP
Piezo driver (A3, A4 PCB)
Electrical power: 208V, 60Hz, 3 phase
2001 vintage.
NIKON NSR 2205 i14E2是一种前沿晶片步进器,旨在为大容量设备制造过程提供高精度和可靠的性能。该设备为光刻和重复成像应用提供了前所未有的分辨率、卓越的性能和多功能功能。NIKON NSR-2205I14E2提供了广泛的功能,以确保最佳的设备制造性能。它配备了强大的NSR-iF2光刻系统，用于过度蚀刻和干蚀刻等先进工艺。该单元配备了先进的成像引擎，提供二维和三维对准精度。它还具有垂直移位机构和高精度激光自动级机器等一系列先进技术，以确保光掩模和晶片的精确定位。该工具能够生产精确度为1nm ±的设备,并提供统一的图像-即使跨大面积设备也是如此。它被设计为兼容多种语言和底物，如无定形硅、结晶硅、氙和砷化氙。该资产能够处理最大10,000毫米²的大面积设备。它提供了一个扩展的焦点深度，允许更深入地渗透到基板层，提供更大的灵活性过程收敛。该车型还配备了自动对焦设备，快速轻松地调整对焦位置，确保每次曝光时图像质量优越。该系统采用直观的用户界面设计,具有专用的菜单,用于处理设置、晶圆信息和设备诊断。它提供全机控制，对光学和基板对准系统进行实时监控。用户友好的界面还允许用户轻松修改参数，更改曝光参数，并存储多个配方，以获得最大的灵活性和效率。NSR-2205 I14E2拥有令人印象深刻的工业级设计,在各种生产环境中提供卓越的可靠性和准确性。它有一个集成的湿度和振动保护工具，减少了环境变化对资产绩效的影响。该模型还具有低维护和易于校准的特点，具有高精度的瞬时校准设备和无故障操作的自我诊断功能。NSR 2205I 14E2是一种高性能、可靠且精确的晶圆步进器,在要求最苛刻的设备制造过程中提供无与伦比的性能。
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