二手 NIKON NSR 2205 iL1 #293808780 待售

NIKON NSR 2205 iL1
ID: 293808780
晶圆大小: 8"
I-Line stepper, 8" Material: GaN on Silicon / Silicon Wafer OF Type: Notch Wafer carrier: Open cassette Temperature: 23°C TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 Coater / Developer system Wafer holder type: Narrow pitch Thick / Thin wafer Reticle size: 6" Reticle library slot: 26 Reticle barcode reader UPS Signal Tower Resolution: Conventional: 0.50 μm 1/2 Annular: 0.35 μm Lens distortion: ≤±50 nm Magnification control accuracy: ≤±20 nm Maximum exposure area: 22.0 mm x 22.0 mm Reticle blind setting accuracy: +0.4 mm to +0.8 mm Exposure power: ≥700 mW/cm² Reticle rotation: ≤20 nm Array orthogonality: ≤±0.1 sec No In-line No IR Alignment No PPD Power supply: 200 VAC, 50 Hz.
NIKON NSR 2205 iL1晶圆步进器是为半导体制造设计的尖端光刻工具。该设备非常注重精度和吞吐量,非常适合对先进技术节点的需求快速增长的大批量生产环境。NSR 2205 iL1将最先进的技术与创新功能相结合,提供卓越的成像性能和过程控制功能。NIKON NSR 2205 iL1的核心是其先进的透镜系统,该系统针对尺寸可达300 mm的晶片上的高分辨率图样进行了优化。镜头单元采用复杂的多元件设计,可最大程度地减少光学像差,并最大限度地提高整个视野的成像质量。该机的数值孔径为1.35,能够以优异的保真度分辨出50纳米以下的特性,适用于要求最苛刻的光刻应用。NSR 2205 iL1配备了高精度级工具,能够在曝光过程中精确定位和对准晶圆。舞台资产采用先进的运动控制算法,即使在高速下也能最小化振动并确保稳定运行。这种精度水平对于实现紧密覆盖和关键尺寸控制至关重要,这对于满足先进半导体工艺的严格要求至关重要。NIKON NSR 2205 iL1的主要功能之一是其高级对齐和焦点控制功能。该模型采用激光干涉法和相位检测技术相结合,实现亚微米对准精度和对焦控制,确保图样以最佳的对焦深度正确定位在晶圆表面上。这种控制水平对于实现整个晶片的高模式保真度和均匀性至关重要,即使在存在工艺变化的情况下也是如此。NSR 2205 iL1还配备了先进的照明设备,设计用于向晶圆表面传递均匀的高强度光。该系统配备了一系列照明模式,包括离轴和环形照明,可以量身定制,以配合光刻工艺的具体要求。这种灵活性使设备能够优化不同类型图样和材料的曝光条件,最大限度地提高光刻工艺的性能和产量。除了先进的成像和对准功能外,NIKON NSR 2205 iL1还配备了一套全面的过程控制和监控工具。该机器具有对关键过程参数(如剂量、焦点和迭加)的实时监控功能,使操作员能够在影响产品质量之前检测和纠正与目标值的偏差。这种主动的过程控制方法最大限度地降低了缺陷的风险,并提高了总体生产效率。总体而言,NSR 2205 iL1晶圆步进器代表了先进半导体制造的最先进的光刻解决方桉。此工具具有先进的成像、对齐和过程控制功能,非常适合需要对50 nm以下功能进行精确阵列处理的大批量生产环境。NIKON NSR 2205 iL1通过将尖端技术与创新功能相结合,使半导体制造商能够在生产下一代设备时达到最高的性能、生产率和产量水平。
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