二手 NIKON NSR 4425i #293719076 待售
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ID: 293719076
晶圆大小: 8"
Stepper, 8"
Reticle loader
Reticle size, 6”
Field size: 44 mm x 54 mm
Library slot: 13
Wafer type: Notch
Wafer loader: Type 2
Wafer alignment: LSA, FIA and EGA
Disk drive: SSD / DOS
Ring chuck
WS-Ball screw
(2) Cassettes
Control rack
PC.
NIKON NSR 4425i是一种尖端晶圆步进器，旨在满足半导体光刻工艺的苛刻要求。这种先进的工具结合了精确度、速度和灵活性，能够以纳米尺度对硅晶片上的集成电路进行高分辨率制图。NIKON NSR-4425I的核心是一种先进的光学设备,它利用深紫外线（DUV）光源,通常在193 nm的波长下工作。这种短波长光使系统能够实现高分辨率的模式，这对于生产具有密集堆积特性的先进半导体器件至关重要。NSR 4425 I具有最先进的折射透镜单元,在将DUV光聚焦到光刻硅晶片上方面起着至关重要的作用。镜头机由镜子和镜头组合而成，共同工作，以最大程度地减少光学像差，达到最佳影像品质。这样可以确保以卓越的保真度和分辨率将图样从光掩模精确传输到晶片上。NSR 4425i的主要优点之一是其先进的对齐和迭加功能。该工具配备了精密的对齐资产,可将光掩码上的图样与晶圆上的图样精确对齐,确保功能彼此之间的位置准确。这对于实现紧密的覆盖公差至关重要,这对于半导体器件的性能和功能至关重要。除了对齐功能外,NIKON NSR 4425 I还提供高级阶段控制功能,可在曝光过程中精确移动和定位晶片。这种高度的控制允许整个晶片的一致和均匀的曝光，从而在整个表面形成一致的图样。NSR-4425I还配备了先进的自动化能力，简化了光刻工艺，减少了人为错误的风险。该模型可以编程为自动执行复杂的曝光序列，最大限度地减少操作员干预，提高整体吞吐量。这种自动化功能对于速度和效率至关重要的大批量制造环境特别有利。此外,NIKON NSR 4425i还集成了先进的监控系统,可连续监控关键参数（如暴露剂量、焦点和对准）,以确保最佳工艺性能和产量。该设备旨在提供实时反馈和调整,使操作员能够快速识别和纠正光刻过程中可能出现的任何问题。总体而言，NIKON NSR-4425I代表了高分辨率半导体光刻应用的最先进的解决方桉。凭借其先进的光学系统、精确对准和迭加能力以及自动化功能，该单元使半导体制造商能够实现生产尖端集成电路所需的高水平的阵列精度和一致性。
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