二手 NIKON NSR i11D #293610278 待售

NIKON NSR i11D是一种晶圆步进器，设计用于半导体制造的精确阵列光掩模。它具有20纳米的对准精度，并提供10 mJ/cm2的高暴露剂量。该i11D配备了NIKON高级扫描站模块,可实现聚焦和曝光优化、自动加载和卸载功能、自动对准和目标位置检测传感。该机操作波长为KrF准分子激光照明的6英寸NA 0.63光束。i11D由扫描仪、物镜和光源组成。扫描仪负责在光掩模的晶圆级准确定位图样图像。曝光光束聚焦的物镜是经过特殊设计的具有衍射效率的非球面透镜，可提供出色的图像保真度。光源是一种KrF准分子激光器，能够产生10 mJ/cm2的高剂量曝光能量，使光刻涂层的掩模能够在晶圆中形成图样。NSR i11D配备了先进的自动对齐设备,能够识别和测量光掩码上的精细对齐特征。系统使用投影相机破译蒙版上的对齐标记，确定要曝光的图桉坐标。此外,"自动对齐"单元能够对10微米到0.5微米的各种特征大小进行阵列设计。NIKON NSR i11D与一系列光掩模基板兼容，可以容纳直径大于100毫米的晶圆。该机器还附带了几种针对特定光掩模类型量身定制的曝光设置的内置配方。这使得在将作业从一个底物转移到另一个底物时更容易保持相同的配置。最后,NSR i11D配备了实时缺陷检测机,用于检查暴露的光掩码并实时检测任何缺陷。这样可以确保对光掩码进行准确可靠的处理,同时最大限度地减少停机时间并提高工作效率。