二手 NIKON NSR i9 #293586905 待售
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ID: 293586905
Stepper
Resolution: 0.5 µm
DOF: 0.7 µm
Expose area: 20 mm
Lens distortion: ±0.10 µm
Exposure power: 500 mW/cm²
Illumination uniformity: <2.0 %
Integrated exp controller: ±2 %
Wafer holder flatness: 2.5 µm
Chip levelling: ±1.5 sec
Auto focus stability range: 0.40 µm (3) times
Stepping accuracy: 0.07 µm
Wafer holder, 8"
Reticle, 6"
Reticle blind: 0.4 - 0.8 mm
Reticle rotation:
Absolute value: ±0.02 µm
Target repeatability value: 0.02 µm.
NIKON NSR i9是一种最先进的晶圆步进器,能够以最小的排泄率对大直径半导体基板表面进行精确和可重复的阵列处理。它巧妙地平衡吞吐量、分辨率和成本在一个紧凑的,但功能强大的包。NSR i9采用了激光干涉仪和导航设备的4透镜投影光学元件,在直径达8英寸的基板上实现了小至32纳米的缺陷。这是对系统前身的双重改进。干涉仪允许晶圆定位中的亚纳米级精度,而导航单元则允许晶圆对准精度通常限制此类操作。NIKON NSR i9框架集还包括一个同时提高显微镜分辨率的消磁透镜,以及一个放大视野的变焦透镜,同时保持对移动目标的精细聚焦,独立于基板位置。NSR i9的其他特点包括增强激光机器,能够在所有工艺波长下发射全光谱光,超低、静态和动态对峙间隙分别为1.2 um至0.1 um,同时易于用于工艺变更,并针对磁盘和平板基板进行了优化。NIKON NSR i9还提供前沿功能,例如可容纳干式和浸入式腔室配方的完全集成腔室, 以轻巧的设计集成光学元件的封装, 一个多层视野的数字显微镜来识别潜在的缺陷, 自动化工具和设置,以尽量减少基板处理时间并提高映射质量, 同时保护精致而有价值的底物的安全, 允许NSR i9对直径最大为8英寸且精度低于nm的晶片进行阵列设计。
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