二手 NIKON NSR S203B #9357170 待售

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ID: 9357170
晶圆大小: 8"
DUV Scanner, 8" Reticle size, 6" Wafer loader: Type 3 KOMATSU G10K Laser Standard BMU Left in-line PPD Bar code reader Wafer holder flatness: 1.060 um Field inclination: 0.184 um Exposure power: 325 mW / cm² Integrated exposure dose control: 0.45% Array orthogonality: 0.034 sec Reticle rotation: 0.004 um Overlay (LSA): X: 0.024 Y: 0.042 Overlay (FIA): X: 0.029 Y: 0.030 Lens distortion: X: -0.013 ~ 0.019 Y: -0.013 ~ 0.014 Reticle blind setting accuracy: YF: 0.60, YB: 0.55 XM: 0.60, XP: 0.60 Stepping accuracy: X: 0.021 um Y: 0.022 um.
NIKON NSR S203B是为高级光刻工艺设计的前沿晶片步进器。是一种用于半导体器件制造的浸入式工具。该设备采用优化光学系统,分辨率为0.13 µm,步长为0.07 µm,聚焦深度为1.7 µm。该单元是一个高度集成,先进的掩模对准能够产生亚微米光刻分辨率。该机配备了高速6kW激光自动对焦机和六轴自动调平控制,提高了成像的均匀性和准确性。这有助于确保晶圆准确地放置在曝光阶段,并实现曝光的最佳聚焦。它还提供了一种先进的冷却工具,带有液体冷却套,以防止暴露发生后折射率发生变化。这一资产的精确度对于确保尽可能高质量的光刻至关重要。NIKON NSR-S203B旨在为用户提供全方位的功能,包括全自动曝光操作、高精度曝光模型和超过1%的曝光精度。曝光设备采用高通量、低曝光时间的抗蚀层补偿系统,优化曝光速度和精度。控制单元确保晶片和曝光单元之间的完美同步,并提供调谐曝光参数的能力。该机还具有高效的温度控制环境室,以保护组件免受热波动的影响。这大大增加了设备的热稳定性,也减少了潜在的图像误差。此外,该工具提供主动振动控制资产,从而减少曝光时间,以确保最高质量的成像。NSR S203B还通过使用针对小特征大小、高分辨率掩码和复杂曝光开发的高级算法提供了出色的成像结果。使用高分辨率相机和先进的图像处理算法进一步加强了曝光过程。相机可以检测晶片上的任何污垢或瑕疵,并自动为它们调整。该模型还包括用于对设备进行编程的复杂用户界面,使用户能够快速设置曝光参数和参数。总体而言,NSR-S203B晶片步进器为用户提供了一个先进的光刻平台,能够提供高精度、高速、高通量和高精度的曝光过程。它是为设备制造商设计的多功能一体解决方桉,提供一流的成像性能和准确性。
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