二手 NIKON NSR S609B #9188831 待售
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ID: 9188831
晶圆大小: 12"
优质的: 2006
Wafer stepper, 12"
CYMER XLA 240 Laser
Resolution: ≦ 55 nm
NA: 1.07
Exposed light source: ArF Excimer laser
Wavelength: 193 nm
Reduction ratio: 1:4
Maximum exposing range: 26 x 33 mm
Overlap accuracy: ≦ 7 nm
Throughput: ≧ 130 wafers/hour (76-Shots)
Exposure power conversion: 4800,952 (mW/cm²)
Illumination uniformity conversion: 0.205% (Dynamic)
Wafer holder flatness, Hip flatness: 2.018 μm
Reduction magnification: 1:4
Measurement of moving mirror measuring:
Residual WX: 1.201 nm
Residual WY: 1.271 nm
Exposure of light moving stage mirror measuring:
Residual WX: 1.028 nm
Residual WY: 0.533 nm
Lens distortion:
Max X: 6.2 nm Y: 3.9 nm
Max X: -6.3 nm Y: -2.4 nm
Stepping precision (Step):
SX1: 3σ = 5.8 nm
SX2: 3σ = 6.9 nm
SX3: 3σ = 6.6 nm
SY1: 3σ = 4.0 nm
SY2: 3σ = 4.2 nm
SY3: 3σ = 4.2 nm
2006 vintage.
NIKON NSR S609B是一种高精度晶片步进器，通过使用步进透镜、光学显微镜、暗场透镜等多种标线，能够生产出质量优良的最先进的半导体晶片。它是为生产大型集成电路（LSI）、DRAM和其他高级内存产品而设计的高度通用的光刻工具。NSR S609B是一种扫描对准晶片步进器，能够提高步进器操作的速度和精度。这台设备配备了高端扫描仪、基于激光的对准系统，以及允许用户从单个终端控制和监控机器运行的通信单元。该装置先进的电子束光学器件和高分辨率步进透镜最大限度地提高了晶圆上产生的图样精度。NIKON NSR S609B的突出特点是其先进的AutoVision TM软件,它能够补偿掩蔽过程中的错误对齐,并且允许用户在各种曝光角度、入射光角度和晶圆尺寸上应用批量校正。该工具具有内置晶片监控资产，可用于检查步进操作过程中晶片表面的完整性。NSR S609B拥有一系列广泛的用户友好功能和技术,例如远程服务支持、高达0.2um的容错、能够使用户利用减少的曝光时间的高速扫描,以及能够同时处理多达五个晶片。步进器还带有一个自动校正模型,该模型可以检测和分析模式放置和放置精度方面的不规则性,强大的基于程序的对齐功能有助于最大程度地减少图像失真,以及一个模式分析设备,以确保步进器以最佳的整体性能运行。为确保用户最大限度地提高生产力，该装置装有200晶片卸载机和200晶片装载机，目的是减少人工处理晶片组件所花费的不必要时间和精力。该系统还配备了一系列防止灰尘和灰尘进入腔室的防护措施，有效地帮助延长其部件的使用寿命并降低维护成本。总而言之,NIKON NSR S609B是一种可靠且功能强大的晶圆步进器,强烈建议生产高级内存产品、LSI和DRAM。NSR S609B具有高精度、先进的功能和易于使用的控件,对于那些希望获得通用且精确的晶圆步进器的用户来说,它无疑是一个令人印象深刻的选择。
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