二手 NIKON NSR SF120 #9227511 待售
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ID: 9227511
晶圆大小: 12"
优质的: 2003
i-Line stepper, 8"-12"
Inline with ACT 12
Magnification: 1/4 Reduction
Light source: i-Line (365 nm)
Resolution: 0.28 µm
Variable lens NA: 0.50~0.62
Exposure filed size: 25-33 mm
Lens adjust: PIEZO (3-Axis)
PC Hardware:
DS10 Type
UPS
Reticle size: 6"
SIMF
Variable reticle microscope
Alignment sensor:
LSA
FIA
AIS
Interferometer system:
Wafer stage
Reticle stage
Multi focus system
Table leveling (VCM)
Wafer loader:
Type3
Notch
Wafer cassette
Front In-line (FOUP) + ACT 12
NC PRE2
Reticle loader:
SMIF Type (OHT)
(2) Indexers
Barcode reader
Particle checker (PPD3)
Control rack:
Right type
Normal cable length
Chamber:
Sendai chamber S52
CVCF NEMA
Electrical power: 208 V, 60 Hz, 3-Phase
BATC / CATC / LLTC: 23°
Options:
Front In-line FOUP
TRANS Power unit
Lamp cooling unit
illumination system:
ID1(L-NA/I-NA): (Con V 0.52/0.36)
ID2(L-NA/I-NA): (ANN 0.62/0.5)
ID3(L-NA/I-NA): (Con V 0.62/0.43)
ID4(L-NA/I-NA): (Con V 0.62/0.36)
Wafer flatness:
Maximum-Minimum: 1.580 µm
L.F Maximum: 0.440 µm
Lamp uniformity:
Power: 1224.687 mw/cm²
Uniformity: 0.780%
Lens distortion:
Minimum - maximum:
X: -0.012 - 0.013 µm
Y: -0.017 - 0.016 µm
Lens inclination:
Maximum-minimum: 0.124 µm
Curvature: 0.041 µm
AST(V-H): 0.051 µm
UR-LL: 0.026 µm
UL-LR: 0.002 µm
Illumination power source: 5.0 kW Mercury ARC lamp
2003 vintage.
NIKON NSR SF120是为高级光刻工艺设计的高性能晶圆步进器。它结合了大光圈透镜设备的优点和全场步进器的高光弹性分辨率。这种组合使NIKON NSR-SF120能够提供高精度的成像和最大的晶圆吞吐量,同时即使在纳米级也能保持极好的可重复性。该系统配备了一个先进的控制单元,其中包括一个强大的扫描功率优化,以尽量减少过程变化。其软件控制的光学对准使图样能够在晶圆表面上精确放置,从而减少了图样传递误差。具有较高的对准精度,可以在亚微米范围内保持特征尺寸和迭加稳定性。NSR SF 120采用全场成像机,与单步刀具相比具有更高的图像吞吐量。它采用高分辨率的光学元件,孔径为0.75X,磁场尺寸为10.8mm,可容纳高达7nm的临界尺寸(CD)阵列。此外,资产还可以容纳从5"到16"不等的掩码。由于其先进的控制设备,该型号在可重复性和曝光稳定性方面提供了出色的性能。它还提供了极好的分期精度,能够提高产量并最大限度地提高产量。NSR SF120的功能包括:用于手动或远程操作的直观控制台GUI、集成的扫描和形状测量系统、用于快速图像传输的高速接口、用于改进k1均匀性的自动居中功能,以及用于减少数据开销的内存单元。为保证高质量的光刻,该机设计了一个双嵌入式工具直接照明控制。此资产可以使用具有固定扫描模式和可变模式移位的中心区域照明来提供分割曝光。NIKON SF120为先进的光刻工艺提供了高性能的解决方桉,在这种工艺中,成像精度和图样精度至关重要。其优越的光学模型,加上出色的控制设备和快速的数据传输,使吞吐量、产量和可重复性得到提高。其高分辨率光学器件和出色的图样形成精度为光刻技术的成功应用提供了必要的工具。
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