二手 NIKON NSR SF120 #9361374 待售
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ID: 9361374
晶圆大小: 12"
优质的: 2003
i-Line stepper, 12"
Main body
Loader chamber
Power supply box
Lamp house cooling unit
Exposing source: i-line
Wavelength: 365 nm
Surface illumination: 1000 mW / cm²
Reduction ratio: 1:4
Wafer alignment: FIA / LSA
LC Control: 25x33 mm
Step pitch: 25 nm x 33 mm, 76-Shots, 12"
Exposure amount: 90 mJ / cm²
Reticle buffer: 14 Sheets (Maximum)
(2) Reticle load ports
Throughput:
FIA-EGA: 100 Wafer / Hour
(2) LSA-EGA: 90 Wafer / Hour
Resolution: <280 nm
Alignment accuracy: <35 nm (M+3σ)
Projection lens NA: 0.50~0.62
Lighting NA with squeezing:
I-NA: 0.43 CONV
I-NA: 0.36 CONV
I-NA: 0.50 2/3Ann
(2) VRA Angle exposure range (Scan field):
26x33 mm
25x33 mm
Options:
PPD
Particle inspection device
2D Barcode
WL Front in-line
Relay FOUP unit
2003 vintage.
NIKON NSR SF120是一种全自动晶片步进器,专为复杂的晶片处理需求而设计。此步进器提供了广泛的功能,例如卓越的阵列对齐设备,可确保在多个晶圆级别上的准确迭加精度。5轴运动系统还能确保晶圆的精确运动，并以最小的振动来提高稳定性。NIKON NSR-SF120还提供高精度透镜单元，产生出色的晶圆表面保真度和提高的性能。先进的光场成像软件和光学设备也保证了出色的边缘检测和锐度.NSR SF 120具有可容纳大多数晶圆形状和尺寸的6英寸大视野。其高分辨率的10百万像素相机提供了卓越的成像能力，可以在整个晶片表面进行精确、可重复的晶片沉积过程。自动晶圆校准机通过设置每个产品的最佳曝光参数来帮助减少用户输入。这有助于确保所有沉积过程以最佳精度进行，而无需任何人工控制。该步进器还配备了许多增强晶片处理的功能，包括基板未对准补偿、缺陷模式识别和晶片级迭加预览，以提高步进器的质量和可重复性。NSR SF120还具有理想的温度控制,以保持晶圆加工的最佳条件.它采用高精度压力室，有助于控制晶圆表面的温度漂移、湿度和污染水平。Depo期间还采用了喷气级冷却技术
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