二手 NIKON NSR SF130 #9207085 待售
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ID: 9207085
晶圆大小: 12"
优质的: 2004
i-Line stepper, 12"
Reticle, 6"
Wavelength: 365 nm
Surface illumination (Standard): 1000 [mW/cm]/more
Reduction ratio: 1:4
Throughput:
FIA-EGA: 120 Wafer/hour or more
LSA-EGA: 96 Wafer/hour or more
Step pitch:
25 nm x 33 mm
76 Shots (Wafers, 12")
Exposure amount: 90 mJ/cm²
Resolution: 280 nm / Less
Alignment accuracy: 35 nm / Less (M+ 3σ)
Lighting NA:
I-NA: 0.43 CONV
I-NA: 0.36 CONV
I-NA: 0.50 2/3Ann
Projection lens NA: Variable 0.50~0.62
VRA Angle / Exposure range (Scan field): 26 x 33 mm, 25 x 33 mm
Wafer alignment: FIA/LSA
LC Control: Adjust only 25 x 33 mm
2004 vintage.
NIKON NSR SF130是一种高性能、高精度的晶片步进器，用于制造半导体晶片上的先进、高密度器件。它采用高分辨率、大场图像扫描和模式对准设备，以及先进的阶梯式扫描控制机制和独特的曝光控制系统，以确保均匀准确的曝光。NIKON NSR-SF130建立在模块化设计平台上,在晶圆处理能力和扩展的现场大小方面具有最佳的灵活性。它配备了能够进行非常高速扫描的光刻扫描级，检测精度为0.0025mm，现场尺寸为5"到12"（线对），用于大模具生产。步进器具有先进的图像传输单元（ITS）以确保最佳的图像质量,具有5m像素摄像机和高达65mm的快门直径,以实现先进的晶圆对准精度。控制工具作为一个单一的单元与照明和自动对焦组件进行高级成像。NSR SF 130利用其独特的曝光控制资产和长反射光源提供均匀、高精度的曝光。它具有极好的场平坦度，以及先进的切割和光刻指令，能够实现先进的光刻模式识别和优化。步进器具有圆柱形透镜,该透镜利用可变长宽比模型和Y轴上的对准来实现高均匀性曝光。其先进的级控制设备具有精确的晶圆对准场中心，以及增强的旋转对准均匀曝光。NIKON NSR SF 130由一个先进的计算机平台提供动力，具有高度强健的操作系统和软件，保证了高性能和低维护。软件包括一流的对齐实用程序和模式识别功能。此外，曝光控制单元确保了最佳效率，使曝光达到0.12 um尺寸线/空间的精度。它还采用了新的曝光控制技术,包括优化的阶段集成、平场精度、改进的图像质量和宽场大小。NSR SF130经SEMI SECS-II认证,符合SEMI PV2-0375。它是一种高效可靠的晶圆步进器,用于先进的光刻加工.
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