二手 NIKON NSR-TFH i14 DL #9023488 待售
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ID: 9023488
i-Line stepper, 6"
Body: i14
Wafer thickness: 1.2mm
Wafer type: Notch
Loader type: 3
Controller: VAX
GEM: Yes
Numerical aperture: 0.3-0.45
Lens data:
Distortion spec +/- 40nm
TFD spec 0.5um
AST spec 0.4um
Curvature spec 0.4um
-Pre data collection before lens optimization.
-Distortion ID1
Max vector X= 65nm, Y=51nm
Min vector X= -87nm, Y= -60nm
Reduction= 0.823
- INC ID1
TFD = 0.726
AST= 0.359
Curvature= -0.251
-Distortion ID9 (map is similar to ID1)
Max vector X= 67nm, Y=65nm
Min vector X= -69nm, Y= -57nm
Reduction= -0.742
Post data after lens optimization:
-INC ID1
TFD = 0.403
AST= 0.240
Curvature= 0.028
-Distortion ID1
Max vector X= 0.024nm, Y= 0.025nm
Min vector X= -0.043nm, Y= -0.042nm
Reduction= -0.323
-Distortion ID9
Max vector X= 43nm, Y= 32nm
Min vector X= -37nm, Y= -34nm
Reduction= 0.270
Main body is not crated
FC77 oil is in the chem support
Accessories included
Deinstalled by OEM
No lens data were collected prior to deinstall
Currently crated.
NIKON NSR-TFH i14 DL是一种晶圆步进器，设计用于半导体器件制造的光刻工艺。它旨在提供具有业界领先精度和精确度的高精度光刻工艺。NIKON NSR TFH I14DL配备了一些先进的功能，有助于提供卓越的光刻效果。其设计包括具有4轴步进变化扫描和自动调平功能的高级标线级,允许快速可靠的操作。它还包括一个高级成像场扁平透镜，以提高整个成像场的光均匀性。集成的背面对准系统确保了晶圆的精确对准和覆盖精度。NSR-TFH i14 DL可以曝光高达4微米的图像，具有出色的分辨率能力。结果精确度高,聚焦深度好.先进的光学和照明系统使晶片步进器能够有效地将最小的结构对准复杂的基板。其专有的深紫外线（DUV）功能使其即使具有最具挑战性的功能也能显示图像,从而提供具有出色对比度的清晰图像。坚固的NSR TFH I14DL结构允许延长运行寿命,而不会降低底层或外围设备的性能。晶圆步进器采用自己的RPC建模语言和复杂的软件界面,具有很大的灵活性,可以根据不同的处理要求进行定制。NIKON NSR-TFH i14 DL有助于减少周期时间，满足严密的周转时间，即使采用复杂的光刻工艺。提供均匀、精确的光束轮廓和光束功率，使晶圆处理时间短，工艺均匀性更好。其出色的硬件和软件功能有助于降低拥有成本,同时允许使用最优质的基板。总体而言,NIKON NSR TFH I14DL是一种功能强大且可靠的晶圆步进器,专为设备制造而设计。其先进的光学、标线级和照明系统使视觉效果和高质量的光刻效果成为可能。晶圆步进器采用自己的RPC建模语言和复杂的软件界面,易于配置和定制,以适应特定的应用程序要求。
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