二手 ULTRATECH 1000 #9023151 待售

ULTRATECH 1000是一种最先进的晶圆步进器，设计用于电镀、扩散、蚀刻和其他集成电路制造过程中的光刻工艺步骤。在一个值得注意的发展中，它配备了卓越的创新功能组合，以实现高端性能。步进器具有过程灵活性和速度,具有高度可配置的光学和运动平台。它由高性能伺服伺服电机提供动力,减少了在许多任务中完成芯片所需的时间。它还配备了加速和速度控制设备（A/S-C），在用于连续打印时提供无与伦比的性能。该系统具有电机速度、变焦和聚焦参数的独特组合,可实现超高速打印速率。此外，1000人还配备了地形和双向光刻技术级联技术，可以进行特定于应用程序的控制和准确性。这为用户提供了明确的暴露方向性,即使在复杂的设备制造步骤中也能获得更高的产量和可靠性。先进的设备也非常适合在整个晶片上保持最高的均匀性，从而最大限度地重现工艺结果。该设备优越的曝光能力可以归功于其最先进的"Centrisys"光学机器,它集光束拆分和象限曝光操作于一体。这使得软接触成像可以通过单个光学参数进行精确的表征。此外,ULTRATECH 1000还配备了功能强大且先进的软件,能够快速高效地控制步进器。MyWafer TM软件和维护板为用户提供了一个全面的控制环境,以轻松方便地配置曝光和对齐参数,并监控晶圆清洁和晶圆加载等时间过程。1000还具有用户可更换的高强度长寿命闪光灯,以及可变现场曝光（VFE）选项,这两种选项均确保了高质量的操作结果。最重要的是,该工具设计简单、干净、可靠,并且需要最低限度的维护才能达到最高性能水平。这一切使ULTRATECH 1000成为满足任何工业或学术光刻要求的理想解决方桉。