二手 ULTRATECH 1100 #130601 待售

ULTRATECH 1100是由Mapper Lithography製造的最先进的晶圆步进器。这台自动照相机能够在半导体基板上精确蚀刻精度图样，其特征尺寸从0.5 μ m到几纳米不等。利用基于Meta "Ultrafast"液体浸入式光刻技术，1100能够通过浸入式浸入式投影透镜投射光线来实现这样的细节。这种透镜能够在广阔的视野中投射出均匀聚焦的光束。ULTRATECH 1100中的扫描系统设计为遵循笛卡尔路径，可达到高达2000mm/s的速度，可重复精度± 3 μ m。扫描机还包含动态方面的校正，这确保了投影图桉的准确表示，无论基板大小如何。1100配备了一个大的可重新配置的遮罩板，并提供了两种成像模式：一种是光掩模模式，另一种是数字模式发生器模式。Photomask模式使用户能够将Photomask布局上载到机器上,并且图像将准确地遵循该设计。在数字模式下，即时成像，允许即时产生复杂的几何设计。ULTRATECH 1100还支持多种涂层和蚀刻材料,以实现各种基材的精确图案化。具体来说，它支持SU-8、聚酰亚胺和BCB等光致抗蚀剂以及硅钨、SiO2和Si3N4等干蚀刻材料。1100有一个10MP的CMOS相机用于高分辨率成像，允许用户实时检查过程结果。相机还可用于进行在线OCR和缺陷检查。总体而言，ULTRATECH 1100是半导体研究和高产量的理想步进器，其精密成像能力、可重新配置的掩模板、广泛的涂层和蚀刻材料、快速扫描和动态方面校正。