二手 ULTRATECH 1100 #9085382 待售

ULTRATECH 1100是为高级光刻设计的最先进的晶圆步进器。晶圆步进器能够进行低至130纳米的模式传输，并显着减少了前几代晶圆步进器的吞吐量时间。1100具有使其成为任何晶圆厂工艺必备的功能。ULTRATECH 1100的核心是其先进的光刻设备，该设备使用激光光学器件在2D面罩上精确制图。这些面罩由铬、金或其他反射材料组成，更容易被激光套用，导致面罩上图像的更精确表示。此外,1100还使用其创新的扩散屏蔽系统来保护掩模在曝光期间不受任何类型的干扰。DSS还通过确保均匀的线条间距和边缘敏锐度来帮助保持图像质量。ULTRATECH 1100还利用了扫描控制技术,该技术可以在掩模投影到基板上时准确有效地跟踪掩模上的图样。这种SCT技术还可以通过减少每次曝光所花费的时间来提高速度并节省大量时间。为了保持质量和准确性，1100设计了一个三点对准单元，以确保激光光学器件的精确对准。这台机器是ULTRATECH 1100独有的,可根据透镜、蒙版或基板的任何失真情况进行调整,确保在整个过程中都能精确成像。1100也完全可定制,允许调整激光中心频率和光学器件,以满足各种工艺的需要。ULTRATECH 1100能够处理直径达8英寸的晶片,使其能够创建更大、更复杂的图案。此外，1100包含先进的纠错算法和15纳米自动聚焦能力，使其成为前沿设备的首选。最后,其用户友好的操作、通信协议和容错工具使ULTRATECH 1100成为可靠且易于使用的晶圆步进器。1100具有丰富的功能列表和多功能功能,是满足光刻需求的理想选择。