二手 ULTRATECH 1100 #9105780 待售

ULTRATECH 1100是为制造高性能集成电路（IC）晶圆而设计的光刻机。它具有使芯片制造商能够创建性能提高的集成电路设备的功能。该设备能够生产出比其他步进器更小的栅极尺寸和更细的线宽的高密度模具。1100能够光刻，分辨率高达0.12微米。它为曝光源配备了UV激光器，可用于高性能或更大。它具有创新的步骤和重复功能,可提供比以前的系统多三倍的可用字段大小。该型号还采用了一个新的激光回读系统，允许高度精确的曝光设置。ULTRATECH 1100还有1微米或更好的定位精度，比典型的光学系统好50-100倍。这使芯片制造商能够创建具有极高精度和可重复性的设备。该单元还安装在高稳定性平台上，随着时间的推移，它以最小的漂移提供了出色的性能。该机具有柔韧性，可用于正面或背面照明模式。它旨在支持广泛的光掩码，可以包括接触、非接触和二进制类型。1100利用了先进的快门工具，还配备了全场对准能力。这样可以确保整个晶片表面的模具放置一致且精确。此外，清除资产的设计旨在最大限度地减少空气传播污染物造成的缺陷，而特征掩蔽模型允许在单个曝光序列中自动创建多层。总体而言,ULTRATECH 1100的设计非常精确、可靠且高效。有了这种设备，芯片制造商就能创造出更精确、公差更紧的IC。它还能够生产门径较小、线宽较细的小型设备。对于希望创建高性能设备的当今芯片制造商来说,这使得1100成为一个有吸引力的选择。