二手 ULTRATECH 1500 MVS #9293528 待售
网址复制成功!
单击可缩放
ID: 9293528
晶圆大小: 6"
优质的: 2000
Stepper, 6"
Stage type:
SERVO Driven X and Y
Stepper motor driven in theta
Multi-axis air bearings
Laser metered
Laser resolution: 40 nm
Vibration control: Isolated granite table
Computer:
HP 362 Controller
Graphics monitor
Enclosed impact printer
Wafer handling:
Cassette to cassette autoloader
Manual loader / Robotic loader
Imaging and lens (1.0 µm):
Resolution: 1.0 µm
CD Control: 0.9 ≤ CD ≤ 1.1 µm
DOF: > 3.0 µm
Lens distortion: ≤ 160 nm, 100%
Lens matching (A-B): ≤ 180 nm, 100%
Maximum image area: 34.2 x 13.6 mm
Longest rectangle: 39.0 x 11.4 mm
Largest square: 18.0 x 18.0 mm
Exposure spectrum: 390-450 nm
Imaging and lens (0.8 µm):
Resolution: 0.8 µm
CD Control: 0.72 ≤ CD ≤ 0.88 µm
DOF: > 2.0 µm
Lens distortion: ≤ 110 nm, 100%
Lens matching (A-B): ≤ 130 nm, 100%
Maximum image area: 31.80 x 11.5 mm
Longest rectangle: 34.0 x 10.0 mm
Largest square: 15.5 x 15.5 mm
Exposure spectrum: 390-450 nm
Exposure (1.0 µm and 0.8 µm):
Uniformity: 3.0%, 2.5%
Wafer plan irradience: ≥1000 wM/cm²
2000 vintage.
ULTRATECH 1500 MVS(Micro-Atmosphere Vacuum Stepper)是一种高性能的晶圆步进器,专为光刻胶应用而设计。这种先进的设备旨在提供高分辨率光刻胶的精确对准和放置,并具有先进的成像和对准能力。适用于先进的光刻应用,包括深紫外线和EUV抗蚀剂。1500 MVS操作环境由一系列密封室与外界大气隔离。它在室内的温度、压力和湿度都预设在最佳光刻条件下。这种真空环境确保了最高水平的曝光精度,同时减少了焦痕和条纹等有害缺陷。ULTRATECH 1500 MVS设有Advancers Guide System (AGS),提供自动聚焦、注册和对准控制。该单元支持小至0.7微米的晶圆对准误差和精确的对焦深度控制。它还包括内置光曲线检测高斯测量机,以确保最佳图像质量和光刻结果。1500 MVS具有Prodigy Controllers Tool和TrueMVS Advanced Acquisition软件。该软件设计用于将成像和光学数据快速灵活地集成到资产中。它最多支持四层,多种成像方法,几乎任何步骤和重复程序。它还支持审查和比较来自不同扫描和曝光过程的结果的能力,提供曝光效果的快速概述。ULTRATECH 1500 MVS设计用于处理任何尺寸不超过8英寸的晶圆。此步进器的最大扫描速度为40毫米/秒,确保了生产和研究应用中的高生产率。还包括一个自动光束大小识别功能,可自动调整曝光参数以获得最佳成像效果。1500 MVS是一个顶级的生产线,先进的晶圆步进设计,为光刻工艺提供最高分辨率的图像。它配备了先进的步进特性、精密的控制和图像处理能力,以及极其精确的对齐和稳定性。对于需要精确、一致的接触结果的生产和研究设施来说,这是一个完美的选择。
还没有评论