二手 ULTRATECH 1500 MVS #9293528 待售

ID: 9293528
晶圆大小: 6"
优质的: 2000
Stepper, 6" Stage type: SERVO Driven X and Y Stepper motor driven in theta Multi-axis air bearings Laser metered Laser resolution: 40 nm Vibration control: Isolated granite table Computer: HP 362 Controller Graphics monitor Enclosed impact printer Wafer handling: Cassette to cassette autoloader Manual loader / Robotic loader Imaging and lens (1.0 µm): Resolution: 1.0 µm CD Control: 0.9 ≤ CD ≤ 1.1 µm DOF: > 3.0 µm Lens distortion: ≤ 160 nm, 100% Lens matching (A-B): ≤ 180 nm, 100% Maximum image area: 34.2 x 13.6 mm Longest rectangle: 39.0 x 11.4 mm Largest square: 18.0 x 18.0 mm Exposure spectrum: 390-450 nm Imaging and lens (0.8 µm): Resolution: 0.8 µm CD Control: 0.72 ≤ CD ≤ 0.88 µm DOF: > 2.0 µm Lens distortion: ≤ 110 nm, 100% Lens matching (A-B): ≤ 130 nm, 100% Maximum image area: 31.80 x 11.5 mm Longest rectangle: 34.0 x 10.0 mm Largest square: 15.5 x 15.5 mm Exposure spectrum: 390-450 nm Exposure (1.0 µm and 0.8 µm): Uniformity: 3.0%, 2.5% Wafer plan irradience: ≥1000 wM/cm² 2000 vintage.
ULTRATECH 1500 MVS(Micro-Atmosphere Vacuum Stepper)是一种高性能的晶圆步进器,专为光刻胶应用而设计。这种先进的设备旨在提供高分辨率光刻胶的精确对准和放置,并具有先进的成像和对准能力。适用于先进的光刻应用,包括深紫外线和EUV抗蚀剂。1500 MVS操作环境由一系列密封室与外界大气隔离。它在室内的温度、压力和湿度都预设在最佳光刻条件下。这种真空环境确保了最高水平的曝光精度,同时减少了焦痕和条纹等有害缺陷。ULTRATECH 1500 MVS设有Advancers Guide System (AGS),提供自动聚焦、注册和对准控制。该单元支持小至0.7微米的晶圆对准误差和精确的对焦深度控制。它还包括内置光曲线检测高斯测量机,以确保最佳图像质量和光刻结果。1500 MVS具有Prodigy Controllers Tool和TrueMVS Advanced Acquisition软件。该软件设计用于将成像和光学数据快速灵活地集成到资产中。它最多支持四层,多种成像方法,几乎任何步骤和重复程序。它还支持审查和比较来自不同扫描和曝光过程的结果的能力,提供曝光效果的快速概述。ULTRATECH 1500 MVS设计用于处理任何尺寸不超过8英寸的晶圆。此步进器的最大扫描速度为40毫米/秒,确保了生产和研究应用中的高生产率。还包括一个自动光束大小识别功能,可自动调整曝光参数以获得最佳成像效果。1500 MVS是一个顶级的生产线,先进的晶圆步进设计,为光刻工艺提供最高分辨率的图像。它配备了先进的步进特性、精密的控制和图像处理能力,以及极其精确的对齐和稳定性。对于需要精确、一致的接触结果的生产和研究设施来说,这是一个完美的选择。
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