二手 ULTRATECH 1500 WAS #9302572 待售

ULTRATECH 1500 WAS Wafer Stepper是一种先进的工具，用于生成具有非常精确的特征的光掩模，用于光刻应用。此工具可产生15-150 nm的特性,非常适合半导体器件工艺。它由几个不同的子系统组成，包括扫描仪、步进电机、标线级和软件。扫描仪充当输入装置和镜头系统，并充当步进器的光源。其精密光学利用紫外线辐射为晶片提供均匀的光斑大小，并且可调节以节省能量，同时仍为每个工艺步骤提供必要的紫外线。此外,扫描仪可以扫描最大尺寸为2.25英寸平方英尺的标线,并且可以调整以满足公差要求。步进电机是一种可提供位置精度和重复性的直接驱动步进电机。它配有惯性电动机，在移动标线级的同时保证平滑、无振动的性能。标线级将晶片固定在适当的位置,而步进电机以小至1/10毫米的增量移动晶片。接下来,1500 WAS Wafer Stepper利用高级软件包控制过程中每个步骤的步进和光照级别。该软件包旨在最大限度地提高流程效率，减少总周期时间。它允许操作员选择各种创建光掩码的过程，从均匀的4倍还原到非常有限的聚焦范围。此外,软件可以自动设置和执行流程,从而无需手动调整设置。最后,ULTRATECH 1500 WAS Wafer Stepper提供了高度的可靠性、准确性和可重复性。其惯性电动机系统抑制运动，而直接驱动步进电动机则确保了标线的安全定位。此外，其精密的紫外线光学器件在整个过程中为晶圆提供了一致的光斑尺寸。此外,1500 WAS Wafer Stepper易于集成到现有半导体工艺中,以最大限度地提高效率。总之，ULTRATECH 1500 WAS Wafer Stepper是一种先进的工具，能够产生高重复性的精确光掩模。它的惯性和直接驱动步进电机确保精确的标线定位，而其精密的紫外线光学器件提供了一个统一的光斑尺寸的过程。此外，1500 WAS Wafer Stepper易于集成到现有的半导体工艺中，使其成为光刻应用的绝佳选择。