二手 ULTRATECH 2700 #9312331 待售

ULTRATECH 2700晶圆步进器是一种自动化和计算机化的半导体产品光刻设备。它专门设计用于将薄膜层涂在晶片上，通过一系列具有多种胶片类型和设置的透镜和成像系统推进晶片。2700的视野为12 x 12英寸，焦点深度± 3.5 μ m。它有1至20 s的曝光时间，适合各种不同的应用。ULTRATECH 2700晶圆步进器的主要部件包括投影仪、镜头组、吊舱、晶圆盒、步进头和控制电脑。投影机负责投影晶圆上的图桉，使用透镜系统来改变视场的大小。步进头负责以精确的方式在视场中移动晶片。吊舱用于在卡带和步进头之间交换晶片。晶圆盒在处理过程中用来固定晶圆。最后，控制计算机负责控制晶片的运动和管理薄膜的曝光。2700 Wafer Stepper能够处理直径最大为8英寸的晶片,并且能够达到3.6 Hz （3.6曝光/秒）的速度。它可以处理多种晶圆尺寸，其先进的控制单元确保曝光时精确对准。它的板载诊断机器监视曝光并提供任何问题的反馈。其先进的热管理工具确保资产在整个过程中保持热稳定。最后,ULTRATECH 2700 Wafer Stepper包含一系列有用的功能,例如有助于减少因不正确的焦点调整而造成的散射的校准过程,以及允许用户快速为特定作业设置模型的自动创建选项。它能够处理各种类型的薄膜，包括原位散焦的加工薄膜和干法加工薄膜。总体而言，2700 Wafer Stepper是一种专门为半导体加工而设计的先进、自动化、计算机化的光刻设备。它能够处理直径最大为8英寸的晶片,并在一定的曝光时间范围内提供高精度和精确度。它的高级控制系统可确保在曝光期间精确对齐,而其有用的功能（如自动创建选项）有助于减少设置作业所花费的时间。