二手 ULTRATECH AP 300 #293595884 待售

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步进式光刻机
製造商
ULTRATECH
模型
AP 300
ID: 293595884
优质的: 2006
Stepper, 12" Standard features target: 2 µm Standard field: 44 mm x 26.7 mm Test reticle: 6 x 6 Wafer thickness handling: 0.4 mm - 2 mm Universal size / Wafer kit: 8" and 12" FOSB Cassette to cassette wafer handling PATMAX MVS Alignment system MVS Alignment spectrum: 530 nm - 570 nm Dual lamp illuminator, 1200 W GHI-Line broadband lens GHI-Line auto filter changer FOUP Wafer handler Extended field 6-Slots reticle stack manual front loading GEM HSMS Communications Environmental chamber Enhanced bottom pellicle protection Closed loop cooling Prism purge kit Dual flip aperture size: 44 mm (Largest) Power source: 208 V, 150 A, 3-Phase, 5-wires 2006 vintage.
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ULTRATECH AP 300是专为高级光刻应用而设计的全自动晶圆步进器。它是一个3轴晶圆步进器，可以支撑高达300 mm的基材尺寸，最小化率为5：1。其最大扫描速度可达1000mm/sec，同时提供高达80000mm/s ²的加速度。ULTRATECH AP300支持两种图像投影模式：Knoll-Hart和Galvo。Knoll Hart模式同时投射多个激光束点，使得曝光时间更短；最大分辨率可达0.3 µm。另一方面，Galvo模式具有提供均匀强度轮廓的优势，最大分辨率为0.7µm。此外,该设备还可以执行2D模式的高速扫描。AP 300设计有多种安全功能,可防止操作过程中的损坏。第一个安全特性是重新校准机构，它能够在每次曝光后自动重新校准系统。这样可以恢复原始分辨率,确保始终保持准确性。第二个特点是增强的自我保护机制；它能够检测光刻过程中发生的任何错误并立即停止该过程。AP300还配备了工业级触摸屏,可轻松操作。它提供了完整的图形用户界面，允许用户轻松查看和控制系统。此外，该单元还配备了精密的OMR界面，可以让用户从头到尾监控整个过程。此外,ULTRATECH AP 300还提供了一个可定制的环境,以确保在各种照明条件下的最佳性能。这可以从标准照明到暗室条件，使用户能够为每个应用程序自定义环境。ULTRATECH AP300旨在为先进的光刻应用提供卓越的精度和可靠性。其高速扫描和精确激光投影使其成为研究和工业应用的理想选择。设备先进的安全性和直观的界面保证了任何用户的简单准确的操作。
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