二手 ULTRATECH AP 300 #293631544 待售

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步进式光刻机
製造商
ULTRATECH
模型
AP 300
ID: 293631544
Stepper Environmental chamber Extended field target: 2 µm GHI-Line auto filter changer Broadband lens Dual lamp illuminator, 1200 W FOSB Cassette to cassette handler FOUP Wafer handler Test reticle: 6x6 Wafer thickness: 0.4 mm to 2 mm PatMax MVS Alignment spectrum: 530 nm - 570 nm 6-Slots reticle stack Front loading: Manual Enhanced bottom pellicle protection Edge exclusion with exclusion ring size, 15 mm Closed loop cooling Prism purge kit Power supply: 208 V, 150 A, 3-Phase, 5-wire.
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ULTRATECH AP 300是为大体积光刻应用而设计的步进重复晶圆步进器。该设备通过精确的投影对准和将图样从光掩模传输到晶片，设计为提供可靠准确的垂直视场（FOV）晶片步进器生产。其分辨率为0.25 μ m,最小特征尺寸为0.17 μ m,焦点变化为0.008 μ m。ULTRATECH AP300的最先进的工程技术为它提供了业界领先的速度，精细对齐晶片的往返速度高达0.35秒，非精细对齐晶片的速度高达0.9秒。此外，每小时生产10,000个晶圆的能力使它成为一种时间和成本效益高的机械。晶圆步进器由高度精密和精确的电动X-Y级驱动。机动化级具有亚纳米分辨率和0.2 μ m的定位精度。这种强大的电动机将有助于确保设备的高速运动保持在定义的精度范围内。这将有助于提高晶圆步进器应用程序的吞吐量。AP 300包括耐用紧凑的外壳设计，配有高清12.7英寸700 TVLine彩色显示器和3D观看系统。观赏系统非常适合监测和检查光刻过程而不会造成任何中断。此外,检视系统还与精密光学器件集成在一起,使其能够以2 μ m的精度和860-1200 μ m的视场检查晶片。为了优化晶片步进器的使用，AP300采用了用户友好的软件，用户可以对各种操作进行编程。该软件还与制造工程语言（MEL）兼容，允许用户以高效的方式控制操作。ULTRATECH AP 300由于其刚度、精度和工作速率，是一种高效可靠的晶圆步进器。它在半导体、平板显示器等相关行业中有应用，以提高一致性和生产率生产光掩模传输。
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