二手 ULTRATECH AP 300 #9236556 待售
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已售出
ID: 9236556
晶圆大小: 12"
优质的: 2008
Stepper, 12"
Operating system: Windows
Intensity: 2500 (mw/cm²)
Wave length: D, H, I Line
DOF: 5 um
Resolution: 200 nm
Field size: 44 x 26 mm
Lamp uniformity: 3.07%
Type: SMIF
Automation line component: GEM
Reticle size, 6"
Wafer of type
Illumination: Standard
Main shutter: Standard
Booth unit
Reticle changer
Reticle cassette
No reticle cassette bar-code
Reticle bar-code reader
TAG Reader
No pellice particle check
Intensity meter holder / Display
High precision N rotation PA parts
CDA Filter: Organ In-organ
Signal tower
No double cassette elevator
No HeNe unit modification unit
Remote E-console: Single
Recipe server
Stage:
Scan speed: 250 mm/sec
Chuck: Ring chuck
Electric power: 208 V / 60 Hz
2008 vintage.
ULTRATECH AP 300是一种晶圆步进器，为半导体制造过程的自动化提供了最高的性能和精度。它是一个多轴自动化设备，具有精密的晶圆处理，高度精确的计量和先进的光学。ULTRATECH AP300得名于其先进的精密技术--"Advanced Precision"或"AP"。AP 300采用精密、多轴定位系统，精度<1000纳米，确保在必要时能够以不同方式精确处理设备。凭借其惊人的精确度,它可以在给定的设备上有效地描述边缘纹理,从而实现所需的最终产品。AP300还具有先进的光学元件，可达到10微米的分辨率，峰值波长与可见光谱一样短。ULTRATECH AP 300具有先进的光学性能,能够以前所未有的精度测量缺陷.从衍射光栅的临界直径和深度测量到倾斜目标的高精度，ULTRATECH AP300允许对器件表面进行优越的检查。此外,AP 300还具有先进的晶圆处理单元,可以快速处理。针对器件的复杂性和输入/输出条件，AP300晶片处理机优化了各种尺寸晶片的吞吐量。总体而言,ULTRATECH AP 300是一种复杂的多轴晶圆步进器,可提供最高的性能和准确性,使半导体制造过程自动化。它具有分辨率高达10微米的先进光学器件，以及<1000纳米精度的高精度多轴定位工具。ULTRATECH AP300还提供了一种先进的晶圆处理资产,可实现高效的吞吐量。AP 300具有很高的可靠性和经济效益,为质量改进、吞吐量优化和半导体器件制造提供了强大的自动化解决方桉。
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